| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| ·光纤陀螺原理 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·干涉型光纤陀螺基本原理 | 第11-12页 |
| ·改善光纤陀螺灵敏度的方法 | 第12-14页 |
| ·光纤陀螺互易结构 | 第14-15页 |
| ·集成光学型光纤陀螺用集成光学芯片概述 | 第15-16页 |
| ·本论文工作 | 第16-19页 |
| 第2章 芯片的分析及设计 | 第19-33页 |
| ·相位调制器的分析与设计 | 第19-25页 |
| ·电光调制原理 | 第19-21页 |
| ·电光相位调制 | 第21-22页 |
| ·GaAs波导电光相位调制器设计 | 第22-25页 |
| ·外延材料的设计 | 第23页 |
| ·波导结构的设计 | 第23-25页 |
| ·TE/TM模式偏振器的优化设计 | 第25-27页 |
| ·功分器的设计 | 第27-31页 |
| ·Y-分支功分器的设计 | 第27-29页 |
| ·MMI功分器的设计 | 第29-31页 |
| ·结论 | 第31-33页 |
| 第3章 芯片的制作 | 第33-49页 |
| ·外延片的准备 | 第33-35页 |
| ·清洗 | 第35-36页 |
| ·光刻 | 第36-39页 |
| ·腐蚀 | 第39-40页 |
| ·电极制作 | 第40-44页 |
| ·真空蒸发镀膜技术 | 第40-42页 |
| ·真空溅射镀膜技术 | 第42页 |
| ·真空离子镀膜技术 | 第42-44页 |
| ·芯片制作工艺流程 | 第44-47页 |
| ·工艺存在的问题及改进 | 第47-49页 |
| 第4章 芯片的测试、分析及改进 | 第49-57页 |
| ·对工作波长为1.3μm芯片的测试 | 第49-53页 |
| ·上下电极Schottky特性和欧姆接触特性测试 | 第49页 |
| ·对相位调制器的半波电压和极化器TE/TM消光比的定性测试 | 第49-51页 |
| ·芯片的定量测试 | 第51-52页 |
| ·对测试结果的分析 | 第52-53页 |
| ·工作波长为1.55μm芯片的设计及测试 | 第53-57页 |
| ·芯片的设计 | 第53-54页 |
| ·芯片的定量测试 | 第54页 |
| ·对测试结果的分析 | 第54-57页 |
| 第5章 总结与展望 | 第57-62页 |
| ·总结 | 第57-59页 |
| ·展望 | 第59-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 作者简历及在学期间所取得的科研成果 | 第66页 |