| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 物质的磁性与分类 | 第9-11页 |
| 1.1.1 顺磁性 | 第10页 |
| 1.1.2 铁磁性 | 第10页 |
| 1.1.3 反铁磁性 | 第10页 |
| 1.1.4 亚铁磁性 | 第10-11页 |
| 1.1.5 抗磁性 | 第11页 |
| 1.2 磁光效应 | 第11-12页 |
| 1.2.1 法拉第效应 | 第11-12页 |
| 1.2.2 克尔效应 | 第12页 |
| 1.2.3 塞曼效应 | 第12页 |
| 1.3 磁光材料 | 第12-13页 |
| 1.3.1 磁光晶体 | 第12-13页 |
| 1.3.2 磁光薄膜 | 第13页 |
| 1.3.3 磁光玻璃 | 第13页 |
| 1.3.4 稀磁半导体 | 第13页 |
| 1.4 论文选题依据 | 第13-16页 |
| 1.5 研究内容 | 第16-18页 |
| 1.5.1 CeAlO_3晶体 | 第16-17页 |
| 1.5.2 CaTb_(1-x)Ce_xAlO_4系列晶体 | 第17-18页 |
| 第二章 实验、测试仪器及提拉法简介 | 第18-24页 |
| 2.1 实验、测试仪器 | 第18页 |
| 2.2 几种测试仪器的介绍 | 第18-22页 |
| 2.2.1 紫外可见漫反射光谱(DRS) | 第18-19页 |
| 2.2.2 UV-VIS-NIR光谱仪 | 第19-20页 |
| 2.2.3 等离子体发射光谱仪(ICP) | 第20-21页 |
| 2.2.4 振动样品磁强计 | 第21页 |
| 2.2.5 法拉第测试系统 | 第21-22页 |
| 2.2.5.1 消光法 | 第21-22页 |
| 2.3 提拉法简介 | 第22-23页 |
| 2.4 生长装置 | 第23-24页 |
| 第三章 CeAlO_3磁光晶体生长及其性能表征 | 第24-54页 |
| 3.1 引言 | 第24-25页 |
| 3.2 CeAlO_3多晶原料的合成 | 第25-29页 |
| 3.2.1 红外光谱分析 | 第27-28页 |
| 3.2.2 漫反射分析 | 第28-29页 |
| 3.3 晶体的生长 | 第29-37页 |
| 3.3.1 晶体生长的步骤 | 第29-30页 |
| 3.3.2 晶体生长的调控 | 第30-33页 |
| 3.3.2.1 温度梯度的调控 | 第30-31页 |
| 3.3.2.2 生长气氛的调控 | 第31页 |
| 3.3.2.3 籽晶的选择 | 第31-32页 |
| 3.3.2.4 组分比例的选择 | 第32页 |
| 3.3.2.5 生长速度的调控 | 第32-33页 |
| 3.3.2.6 转速的调控 | 第33页 |
| 3.3.2.7 退火工艺的调控 | 第33页 |
| 3.3.3 晶体较优的生长参数 | 第33-34页 |
| 3.3.4 质量较高的晶体照片 | 第34页 |
| 3.3.5 晶体生长习性分析 | 第34-37页 |
| 3.4 晶体粉末X射线衍射分析 | 第37页 |
| 3.5 Rietveld法精修结构 | 第37-39页 |
| 3.6 晶体的透过光谱 | 第39-41页 |
| 3.7 晶体的吸收光谱 | 第41-42页 |
| 3.8 晶体XPS价态分析 | 第42-44页 |
| 3.9 晶体的磁性 | 第44-46页 |
| 3.9.1 晶体常温磁性分析 | 第44-45页 |
| 3.9.2 晶体低温磁性分析 | 第45-46页 |
| 3.10 晶体的磁光性能 | 第46-48页 |
| 3.10.1 法拉第旋转角测试 | 第46-47页 |
| 3.10.2 晶体费尔德常数的计算 | 第47-48页 |
| 3.11 晶体的磁圆二色性 | 第48-50页 |
| 3.12 晶体的荧光分析 | 第50-52页 |
| 3.12.1 晶体的激发和发射光谱 | 第50-51页 |
| 3.12.2 晶体的寿命 | 第51-52页 |
| 3.13 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 掺铈CaTbAlO_3磁光晶体生长及其性能表征 | 第54-76页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 多晶原料的制备方法 | 第55-57页 |
| 4.2.1 CaTbAlO_4多晶原料的合成 | 第55-56页 |
| 4.2.2 CaCeAlO_4多晶原料的合成 | 第56-57页 |
| 4.3 晶体生长 | 第57-59页 |
| 4.3.1 晶体生长的参数 | 第58页 |
| 4.3.2 晶体照片 | 第58-59页 |
| 4.4 晶体粉末XRD测试 | 第59-60页 |
| 4.5 晶体成分分析及有效分凝系数 | 第60-62页 |
| 4.5.1 晶体的化学成分均匀性分析 | 第60-62页 |
| 4.5.2 晶体的有效分凝系数 | 第62页 |
| 4.6 晶体的晶胞参数 | 第62-65页 |
| 4.7 晶体的磁化率 | 第65-67页 |
| 4.8 晶体的透过光谱 | 第67-68页 |
| 4.9 晶体的磁光性能 | 第68-72页 |
| 4.9.1 法拉第旋转角的测定 | 第68-70页 |
| 4.9.2 不同波段下晶体的费尔德常数 | 第70-72页 |
| 4.10 晶体粉末的磁化率 | 第72页 |
| 4.11 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第72-73页 |
| 4.12 晶体MCD分析 | 第73-74页 |
| 4.13 本章小结 | 第74-76页 |
| 总结 | 第76-78页 |
| 展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 个人简历 | 第89页 |