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新型多相移Bragg光栅的设计与制作

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第9-16页
    1.1 光通信的发展第9-10页
    1.2 可调谐半导体激光器与Bragg波导光栅第10-13页
    1.3 色散补偿器与Bragg光纤光栅第13-14页
    1.4 本文的工作第14-16页
2 Bragg光栅基本理论及其常用制备方法第16-25页
    2.1 耦合模理论第16-19页
    2.2 传输矩阵法第19-21页
    2.3 常用的Bragg光栅制备方法第21-24页
    2.4 本章小结第24-25页
3 新型多相移光栅的设计第25-50页
    3.1 取样光栅特性分析及模拟第25-29页
    3.2 反射谱级联技术及多相移技术第29-34页
    3.3 大范围可调谐激光器中的新型多相移波导光栅的设计第34-43页
    3.4 多通道色散补偿器中的新型多相移光纤光栅的设计第43-49页
    3.5 本章小结第49-50页
4 基于纳米压印技术制备多相移数字级联波导光栅第50-77页
    4.1 纳米压印技术简介第50-55页
    4.2 压印过程基本规律的仿真第55-61页
    4.3 多相移数字级联波导光栅的压印第61-68页
    4.4 多相移数字级联波导光栅的刻蚀第68-75页
    4.5 本章小结第75-77页
5 总结及展望第77-79页
    5.1 全文总结第77-78页
    5.2 展望第78-79页
致谢第79-81页
参考文献第81-87页
附录 攻读硕士学位期间发表的论文及申请的专利第87页

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