摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
1 绪论 | 第9-16页 |
1.1 光通信的发展 | 第9-10页 |
1.2 可调谐半导体激光器与Bragg波导光栅 | 第10-13页 |
1.3 色散补偿器与Bragg光纤光栅 | 第13-14页 |
1.4 本文的工作 | 第14-16页 |
2 Bragg光栅基本理论及其常用制备方法 | 第16-25页 |
2.1 耦合模理论 | 第16-19页 |
2.2 传输矩阵法 | 第19-21页 |
2.3 常用的Bragg光栅制备方法 | 第21-24页 |
2.4 本章小结 | 第24-25页 |
3 新型多相移光栅的设计 | 第25-50页 |
3.1 取样光栅特性分析及模拟 | 第25-29页 |
3.2 反射谱级联技术及多相移技术 | 第29-34页 |
3.3 大范围可调谐激光器中的新型多相移波导光栅的设计 | 第34-43页 |
3.4 多通道色散补偿器中的新型多相移光纤光栅的设计 | 第43-49页 |
3.5 本章小结 | 第49-50页 |
4 基于纳米压印技术制备多相移数字级联波导光栅 | 第50-77页 |
4.1 纳米压印技术简介 | 第50-55页 |
4.2 压印过程基本规律的仿真 | 第55-61页 |
4.3 多相移数字级联波导光栅的压印 | 第61-68页 |
4.4 多相移数字级联波导光栅的刻蚀 | 第68-75页 |
4.5 本章小结 | 第75-77页 |
5 总结及展望 | 第77-79页 |
5.1 全文总结 | 第77-78页 |
5.2 展望 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-87页 |
附录 攻读硕士学位期间发表的论文及申请的专利 | 第87页 |