摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-25页 |
1.1 泡沫铝研究背景 | 第9-17页 |
1.1.1 简介 | 第9页 |
1.1.2 国内外研究现状 | 第9-11页 |
1.1.3 结构特点 | 第11-12页 |
1.1.4 制备方法 | 第12-14页 |
1.1.5 性能 | 第14-15页 |
1.1.6 应用 | 第15-17页 |
1.2 多孔材料表面强化技术 | 第17-22页 |
1.2.1 电沉积技术 | 第17-20页 |
1.2.1.1 产生与发展 | 第17页 |
1.2.1.2 电沉积原理 | 第17-19页 |
1.2.1.3 硫酸盐电沉积铜 | 第19页 |
1.2.1.4 纳米强化粒子 | 第19-20页 |
1.2.2 微弧氧化技术 | 第20-22页 |
1.2.2.1 产生及发展 | 第20-21页 |
1.2.2.2 特点 | 第21页 |
1.2.2.3 陶瓷层生长机理 | 第21-22页 |
1.3 本课题研究的主要内容 | 第22-25页 |
第二章 实验方法 | 第25-29页 |
2.1 实验材料 | 第25-27页 |
2.1.1 试样材料及规格 | 第25页 |
2.1.2 前处理溶液 | 第25-26页 |
2.1.3 电解液 | 第26-27页 |
2.1.3.1 电沉积电解液 | 第26页 |
2.1.3.2 微弧氧化溶液 | 第26-27页 |
2.2 实验设备 | 第27-28页 |
2.2.1 电沉积设备 | 第27页 |
2.2.2 微弧氧化设备 | 第27-28页 |
2.3 分析测试方法 | 第28-29页 |
2.3.1 涂层表面形貌分析 | 第28页 |
2.3.2 涂层相组成分析 | 第28页 |
2.3.3 耐电化学腐蚀性能的测定 | 第28页 |
2.3.4 压缩性能的测定 | 第28-29页 |
第三章 闭孔泡沫铝表面电沉积工艺及其性能研究 | 第29-45页 |
3.1 电沉积前后的宏观形貌 | 第29-30页 |
3.2 电沉积前后的微观形貌 | 第30-32页 |
3.3 电沉积后截面形貌 | 第32-33页 |
3.4 Cu-SiC纳米复合涂层微观形貌和EDS分析 | 第33-34页 |
3.5 电化学腐蚀性能 | 第34-35页 |
3.6 机械性能 | 第35-42页 |
3.6.1 理论模型(基本原理) | 第35-37页 |
3.6.2 压缩性能 | 第37-42页 |
3.7 结论 | 第42-45页 |
第四章 闭孔泡沫铝微弧氧化涂层工艺及其性能研究 | 第45-53页 |
4.1 工艺参数对陶瓷层的影响 | 第45页 |
4.2 微弧氧化前后的宏观形貌 | 第45页 |
4.3 微弧氧化前后的微观形貌 | 第45-47页 |
4.4 XRD分析 | 第47-48页 |
4.5 电化学腐蚀性能 | 第48-49页 |
4.6 机械性能 | 第49-51页 |
4.7 结论 | 第51-53页 |
第五章 两种表面处理工艺性能对比 | 第53-55页 |
5.1 耐腐蚀性能 | 第53页 |
5.2 压缩性能 | 第53-54页 |
5.3 结论 | 第54-55页 |
结论 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-63页 |
攻读硕士期间取得成果 | 第63-65页 |
致谢 | 第65页 |