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硒化锑薄膜太阳电池制备及缓冲层研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
1 绪论第7-23页
    1.1 引言第7-8页
    1.2 太阳电池发展和主要分类第8-13页
        1.2.1 硅太阳电池第8-10页
        1.2.2 化合物薄膜太阳电池第10-11页
        1.2.3 第三代新型太阳电池第11-13页
    1.3 太阳电池的基本理论第13-18页
        1.3.1 太阳电池原理第13-14页
        1.3.2 太阳电池输出特性第14-18页
    1.4 Sb_2Se_3薄膜太阳电池简介第18-22页
        1.4.1 硒化锑材料特性第18-20页
        1.4.2 硒化锑太阳电池研究进展第20-21页
        1.4.3 硒化锑薄膜基本制备方法第21-22页
    1.5 本课题研究内容和创新点第22-23页
2 实验设备和基本原理第23-31页
    2.1 制备设备第23-25页
        2.1.1 近空间升华设备第23-24页
        2.1.2 磁控溅射设备第24-25页
    2.2 表征设备第25-30页
        2.2.1 X射线衍射仪(XRD)第25-26页
        2.2.2 I-V测试系统第26-27页
        2.2.3 外量子效率(IPEC)测试设备第27-28页
        2.2.4 扫描电子显微镜(SEM)第28-29页
        2.2.5 原子力显微镜(AFM)第29页
        2.2.6 紫外-可见-近红外分光光度计第29-30页
    2.3 本章小结第30-31页
3 Sb_2Se_3薄膜太阳电池制备与研究第31-46页
    3.1 CdS缓冲层的制备及表征第31-35页
        3.1.1 化学水浴法制备CdS缓冲层第31-33页
        3.1.2 CdS薄膜的CdCl2热处理第33-34页
        3.1.3 CdS薄膜的表征及结果分析第34-35页
    3.2 Sb_2Se_3吸收层的制备及表征第35-39页
        3.2.1 Sb_2Se_3薄膜的制备第36页
        3.2.2 厚度对Sb_2Se_3薄膜的影响第36-37页
        3.2.3 Sb_2Se_3薄膜的表征及结果分析第37-39页
    3.3 Sb_2Se_3太阳电池器件研究第39-40页
    3.4 Sb_2Se_3薄膜太阳电池漏电研究第40-45页
    3.5 本章小结第45-46页
4 包含SnO_2高阻缓冲层的电池制备与研究第46-54页
    4.1 SnO_2在薄膜太阳电池中的应用第46-47页
    4.2 射频反应溅射SnO_2薄膜第47-49页
    4.3 SnO_2薄膜的表征及结果分析第49-50页
    4.4 加入SnO_2高阻层后的电池器件研究第50-52页
    4.5 不同温度下的有无SnO_2高阻层的Sb_2Se_3太阳电池的性能对比第52-53页
    4.6 本章小结第53-54页
5 总结与展望第54-56页
    5.1 总结第54页
    5.2 展望第54-56页
参考文献第56-61页
致谢第61页

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