| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-12页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第12-13页 |
| 第2章 椭偏参数的数值模拟方法 | 第13-26页 |
| 2.1 Maxwell方程组与本构关系 | 第13-14页 |
| 2.2 严格耦合波分析法 | 第14-18页 |
| 2.2.1 入射区和透射区的Rayleigh展开 | 第15-16页 |
| 2.2.2 光栅区介电常数和电磁场的Fourier展开 | 第16-17页 |
| 2.2.3 光栅区的边界条件 | 第17-18页 |
| 2.3 时域有限差分法 | 第18-23页 |
| 2.3.1 时域有限差分法的基本求解过程 | 第19-22页 |
| 2.3.2 时间和空间离散时的数值稳定性要求 | 第22-23页 |
| 2.3.3 FDTD近-远场外推 | 第23页 |
| 2.4 椭偏参数的计算 | 第23-24页 |
| 2.5 Mueller矩阵的计算方法 | 第24-25页 |
| 2.6 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 氧化层对一维光栅椭偏性质的影响 | 第26-39页 |
| 3.1 包覆氧化层的铝矩形光栅模型 | 第26页 |
| 3.2 程序正确性验证及收敛性验证 | 第26-28页 |
| 3.3 氧化层对一维铝矩形光栅椭偏性质的影响 | 第28-33页 |
| 3.3.1 厚度均匀氧化层对光栅椭偏特性的影响 | 第28-30页 |
| 3.3.2 厚度不均匀氧化层对光栅椭偏性质的影响 | 第30-33页 |
| 3.4 氧化层厚度对镜反射方向Mueller矩阵元素的影响 | 第33-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 二维粗糙表面的椭偏特性 | 第39-58页 |
| 4.1 二维高斯随机粗糙表面模型 | 第39-42页 |
| 4.2 程序正确性及收敛性验证 | 第42-47页 |
| 4.2.1 FDTD计算一维光栅结构椭偏性质的程序正确性验证 | 第42-43页 |
| 4.2.2 FDTD程序计算二维粗糙表面椭偏性质与实验数据的对比 | 第43-45页 |
| 4.2.3 计算区域及网格收敛性验证 | 第45-46页 |
| 4.2.4 模拟探测器大小对椭偏模拟计算结果影响的研究 | 第46-47页 |
| 4.3 高斯粗糙表面的椭偏特性研究 | 第47-53页 |
| 4.4 粗糙表面椭偏参数随入射角的变化 | 第53-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读学位期间发表的论文及其它成果 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
