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中红外全介质超表面的制备与表征

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第9-19页
    1.1 研究背景第9页
    1.2 超表面的起源及分类第9-14页
        1.2.1 超表面的概念第10页
        1.2.2 超材料的起源第10-11页
        1.2.3 超表面的分类第11-14页
    1.3 超表面的应用及研究现状第14-17页
    1.4 本论文的主要内容及创新点第17-18页
    1.5 本论文的结构安排第18-19页
第二章 超表面器件的理论基础与设计思路第19-29页
    2.1 麦克斯韦方程组与波动方程第19-20页
    2.2 广义斯涅尔定律第20-22页
    2.3 惠更斯超表面的设计原理第22-25页
        2.3.1 米氏散射理论第22-24页
        2.3.2 结构单元的集体电磁响应第24-25页
    2.4 惠更斯超表面的边界条件第25-27页
    2.5 平面透镜的相位轮廓第27-28页
    2.6 小结第28-29页
第三章 超表面器件的设计与仿真结果第29-49页
    3.1 超表面器件的材料参数第29-32页
        3.1.1 椭偏仪测试表征第29-30页
        3.1.2 结构单元材料的选取第30-32页
    3.2 矩形结构单元的仿真结果第32-37页
        3.2.1 矩形结构单元的电磁共振分析第32-34页
        3.2.2 矩形结构单元的选取第34-37页
    3.3 H形结构单元的仿真结果第37-41页
        3.3.1 H形结构单元的电磁共振分析第37-39页
        3.3.2 组合结构单元的选取第39-41页
    3.4 衍射光束偏转器的仿真结果第41-45页
        3.4.1 结构单元的排列方式第41-42页
        3.4.2 结构单元的边界条件有效性验证第42-44页
        3.4.3 电磁场分布的仿真结果分析第44-45页
    3.5 超表面透镜的仿真结果第45-48页
        3.5.1 一维透镜的仿真结果第45-47页
        3.5.2 二维透镜的仿真结果第47-48页
    3.6 小结第48-49页
第四章 超表面器件的制备与表征第49-74页
    4.1 制备工艺的介绍第49-53页
        4.1.1 电子束曝光系统第49页
        4.1.2 器件制备的工艺流程第49-53页
    4.2 衍射光束偏转器的表征与分析第53-57页
        4.2.1 工作效率及偏转角的表征方案第54-55页
        4.2.2 器件的表征结果分析第55-57页
    4.3 一维超表面透镜的表征与分析第57-63页
        4.3.1 一维透镜的功能及工作效率第58-60页
        4.3.2 一维透镜的数值孔径第60-61页
        4.3.3 一维透镜的聚焦性能第61-63页
    4.4 二维超表面透镜的表征与分析第63-70页
        4.4.1 二维透镜的功能及工作效率第63-65页
        4.4.2 二维透镜的聚焦性能第65-68页
        4.4.3 二维透镜的成像性能第68-70页
    4.5 超表面器件工作效率的定量分析第70-72页
    4.6 超表面器件的优化方案第72-73页
    4.7 小结第73-74页
第五章 结束语第74-76页
    5.1 全文主要内容及结论第74-75页
    5.2 后续研究工作的展望第75-76页
致谢第76-77页
参考文献第77-82页
攻读硕士学位期间取得的学术成果第82页

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