中红外全介质超表面的制备与表征
摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 研究背景 | 第9页 |
1.2 超表面的起源及分类 | 第9-14页 |
1.2.1 超表面的概念 | 第10页 |
1.2.2 超材料的起源 | 第10-11页 |
1.2.3 超表面的分类 | 第11-14页 |
1.3 超表面的应用及研究现状 | 第14-17页 |
1.4 本论文的主要内容及创新点 | 第17-18页 |
1.5 本论文的结构安排 | 第18-19页 |
第二章 超表面器件的理论基础与设计思路 | 第19-29页 |
2.1 麦克斯韦方程组与波动方程 | 第19-20页 |
2.2 广义斯涅尔定律 | 第20-22页 |
2.3 惠更斯超表面的设计原理 | 第22-25页 |
2.3.1 米氏散射理论 | 第22-24页 |
2.3.2 结构单元的集体电磁响应 | 第24-25页 |
2.4 惠更斯超表面的边界条件 | 第25-27页 |
2.5 平面透镜的相位轮廓 | 第27-28页 |
2.6 小结 | 第28-29页 |
第三章 超表面器件的设计与仿真结果 | 第29-49页 |
3.1 超表面器件的材料参数 | 第29-32页 |
3.1.1 椭偏仪测试表征 | 第29-30页 |
3.1.2 结构单元材料的选取 | 第30-32页 |
3.2 矩形结构单元的仿真结果 | 第32-37页 |
3.2.1 矩形结构单元的电磁共振分析 | 第32-34页 |
3.2.2 矩形结构单元的选取 | 第34-37页 |
3.3 H形结构单元的仿真结果 | 第37-41页 |
3.3.1 H形结构单元的电磁共振分析 | 第37-39页 |
3.3.2 组合结构单元的选取 | 第39-41页 |
3.4 衍射光束偏转器的仿真结果 | 第41-45页 |
3.4.1 结构单元的排列方式 | 第41-42页 |
3.4.2 结构单元的边界条件有效性验证 | 第42-44页 |
3.4.3 电磁场分布的仿真结果分析 | 第44-45页 |
3.5 超表面透镜的仿真结果 | 第45-48页 |
3.5.1 一维透镜的仿真结果 | 第45-47页 |
3.5.2 二维透镜的仿真结果 | 第47-48页 |
3.6 小结 | 第48-49页 |
第四章 超表面器件的制备与表征 | 第49-74页 |
4.1 制备工艺的介绍 | 第49-53页 |
4.1.1 电子束曝光系统 | 第49页 |
4.1.2 器件制备的工艺流程 | 第49-53页 |
4.2 衍射光束偏转器的表征与分析 | 第53-57页 |
4.2.1 工作效率及偏转角的表征方案 | 第54-55页 |
4.2.2 器件的表征结果分析 | 第55-57页 |
4.3 一维超表面透镜的表征与分析 | 第57-63页 |
4.3.1 一维透镜的功能及工作效率 | 第58-60页 |
4.3.2 一维透镜的数值孔径 | 第60-61页 |
4.3.3 一维透镜的聚焦性能 | 第61-63页 |
4.4 二维超表面透镜的表征与分析 | 第63-70页 |
4.4.1 二维透镜的功能及工作效率 | 第63-65页 |
4.4.2 二维透镜的聚焦性能 | 第65-68页 |
4.4.3 二维透镜的成像性能 | 第68-70页 |
4.5 超表面器件工作效率的定量分析 | 第70-72页 |
4.6 超表面器件的优化方案 | 第72-73页 |
4.7 小结 | 第73-74页 |
第五章 结束语 | 第74-76页 |
5.1 全文主要内容及结论 | 第74-75页 |
5.2 后续研究工作的展望 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第82页 |