大口径非球面元件子口径抛光去除稳定性研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 研究现状 | 第12-16页 |
| 1.2.1 大口径非球面光学元件研制现状 | 第12-14页 |
| 1.2.2 气囊抛光技术发展及研究现状 | 第14-15页 |
| 1.2.3 工件材料去除稳定性研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3 本文主要内容 | 第16-17页 |
| 1.4 论文结构 | 第17-19页 |
| 第二章 子口径抛光材料去除理论 | 第19-32页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 子口径抛光材料去除原理 | 第19-20页 |
| 2.3 考虑去除函数畸变的等速移动材料去除模型 | 第20-27页 |
| 2.3.1 移动叠加材料去除原理 | 第20-23页 |
| 2.3.2 等速移动材料去除模型与仿真 | 第23-27页 |
| 2.4 考虑去除函数畸变的驻留时间求解模型与仿真 | 第27-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 工具磨损与工具表面处理技术 | 第32-46页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 工具磨损对去除函数的影响 | 第32-37页 |
| 3.2.1 实验设计 | 第32-33页 |
| 3.2.2 实验结果 | 第33-35页 |
| 3.2.3 机理分析 | 第35-37页 |
| 3.3 工具表面处理技术 | 第37-45页 |
| 3.3.1 气囊在位修整运动学模型 | 第37-40页 |
| 3.3.2 修整运动参数与工具表面轮廓的关系 | 第40-42页 |
| 3.3.3 修整对去除函数的影响 | 第42-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 去除函数空间畸变与抑制技术 | 第46-59页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 工具与非球面接触区曲率变化 | 第46-50页 |
| 4.2.1 曲率效应对气囊与工件接触区的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.2 气囊与非球面接触区拟合曲率变化规律 | 第47-50页 |
| 4.3 与曲率相关的去除函数模型 | 第50-57页 |
| 4.3.1 接触应力ANSYS求解模型 | 第50-53页 |
| 4.3.2 相对速度运动学求解模型 | 第53-55页 |
| 4.3.3 与曲率相关的去除函数仿真 | 第55-56页 |
| 4.3.4 模型验证 | 第56-57页 |
| 4.4 去除函数畸变抑制策略 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 工艺路线优化及加工实例 | 第59-66页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 非球面加工工艺优化 | 第59-61页 |
| 5.2.1 非球面典型工艺路线分析 | 第59-60页 |
| 5.2.2 非球面优化工艺流程分析 | 第60-61页 |
| 5.3 非球面光学元件加工实例 | 第61-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-69页 |
| 6.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第75-76页 |
