| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第11页 |
| 1.2 TCO 薄膜电输运性质和光学透过性机理 | 第11-19页 |
| 1.2.1 透明导电氧化物薄膜 | 第11-15页 |
| 1.2.2 TCO 薄膜的电阻率 | 第15-17页 |
| 1.2.3 TCO 薄膜的载流子浓度 | 第17-18页 |
| 1.2.4 TCO 薄膜的迁移率和散射机制 | 第18-19页 |
| 1.2.5 TCO 薄膜的光学透过性机理 | 第19页 |
| 1.3 Ta: TiO_2透明导电薄膜的研究进展 | 第19-25页 |
| 1.4 PLD 法制备 Ta:TiO_2薄膜 | 第25-28页 |
| 1.4.1 PLD 法制备薄膜的工艺 | 第25-26页 |
| 1.4.2 PLD 技术的优点 | 第26-27页 |
| 1.4.3 PLD 技术中一些制备参数对薄膜性能的影响 | 第27-28页 |
| 1.5 本论文主要研究内容 | 第28-29页 |
| 第二章 Ta:TiO_2薄膜的制备与表征 | 第29-35页 |
| 2.1 引言 | 第29页 |
| 2.2 实验设备 | 第29-30页 |
| 2.3 试验过程 | 第30-31页 |
| 2.3.1 Ta:TiO_2靶材的制备 | 第30页 |
| 2.3.2 衬底清洗 | 第30页 |
| 2.3.3 薄膜制备过程 | 第30-31页 |
| 2.3.4 实验参数 | 第31页 |
| 2.4 材料性能测试 | 第31-35页 |
| 2.4.1 X 射线衍射(XRD) | 第31-32页 |
| 2.4.2 厚度测量 | 第32页 |
| 2.4.3 原子力显微镜(AFM) | 第32-33页 |
| 2.4.4 紫外/可见光分光光度计 | 第33页 |
| 2.4.5 霍尔测试系统 | 第33-34页 |
| 2.4.6 激光功率计 | 第34-35页 |
| 第三章 Ta:TiO_2薄膜结构及光学性能的研究 | 第35-42页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 Ta:TiO_2薄膜生长机理和结构分析 | 第35-37页 |
| 3.3 Ta:TiO_2薄膜表面分析 | 第37-39页 |
| 3.4 Ta:TiO_2薄膜光学性能分析 | 第39-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 Ta:TiO_2薄膜电输运性质的研究 | 第42-48页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 Ta:TiO_2薄膜电学性能影响因素 | 第42-43页 |
| 4.3 Ta:TiO_2薄膜在 10-300K 温度范围内的导电机制 | 第43-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第55页 |