| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 1.绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 铁电体与铁电性 | 第12-16页 |
| 1.1.1 铁电体的发展 | 第12-13页 |
| 1.1.2 铁电体的基本概念 | 第13-16页 |
| 1.2 薄膜的生长 | 第16-17页 |
| 1.2.1 薄膜的生长方式 | 第16页 |
| 1.2.2 影响薄膜生长的因素 | 第16-17页 |
| 1.3 铁电体国内外研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3.1 铁电体国内研究现状 | 第18页 |
| 1.3.2 铁电体国外研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4 课题主要研究工作 | 第19-22页 |
| 1.4.1 主要研究内容及重点 | 第19页 |
| 1.4.2 课题研究方案 | 第19-21页 |
| 1.4.3 论文章节安排 | 第21-22页 |
| 2.PMNT薄膜的制备及表征 | 第22-30页 |
| 2.1 PMNT薄膜的制备方法 | 第22-24页 |
| 2.1.1 溶胶凝胶法 | 第22页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积法 | 第22-23页 |
| 2.1.3 金属化学气相沉积法 | 第23页 |
| 2.1.4 磁控溅射法 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜的结构分析 | 第24-26页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第25-26页 |
| 2.3 薄膜电学性能测试 | 第26-30页 |
| 2.3.1 铁电测试 | 第27-28页 |
| 2.3.2 介电测试 | 第28页 |
| 2.3.3 导电性测试 | 第28-30页 |
| 3.Si/SiO_2/TiO_2/Pt/LSCO衬底材料的制备及性能分析 | 第30-38页 |
| 3.1 TiO_2缓冲层的制备 | 第30-31页 |
| 3.2 Pt电极层的制备 | 第31-32页 |
| 3.3 制备LSCO外延层 | 第32-35页 |
| 3.3.1 LSCO薄膜生长温度实验 | 第33-34页 |
| 3.3.2 LSCO氧氩流量比实验 | 第34-35页 |
| 3.4 LSCO导电性测试 | 第35-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 4.制备PMN-0.3PT薄膜 | 第38-47页 |
| 4.1 PMNT退火温度实验 | 第38-40页 |
| 4.1.1 PMNT薄膜XRD测试 | 第38-39页 |
| 4.1.2 PMNT薄膜SEM测试 | 第39-40页 |
| 4.2 PMNT退火时间单因素实验 | 第40-43页 |
| 4.2.1 PMNT薄膜XRD测试 | 第41-42页 |
| 4.2.2 PMNT薄膜SEM测试 | 第42-43页 |
| 4.3 LSCO生长温度对PMNT薄膜的影响 | 第43-45页 |
| 4.3.1 PMNT薄膜XRD测试 | 第43-44页 |
| 4.3.2 PMNT薄膜SEM测试 | 第44-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 5.PMNT结构单元的制备 | 第47-62页 |
| 5.1 光刻工艺 | 第47-49页 |
| 5.1.2 工艺的前期准备 | 第49页 |
| 5.2 工艺参数正交实验 | 第49-55页 |
| 5.2.1 反转烘单因素实验 | 第50-52页 |
| 5.2.2 曝光时间与显影时间二因素四水平正交实验 | 第52-55页 |
| 5.3 光刻后图形的刻蚀与剥离 | 第55-58页 |
| 5.3.1 刻蚀 | 第55-56页 |
| 5.3.2 湿法腐蚀的工艺流程 | 第56-57页 |
| 5.3.3 湿法腐蚀要求 | 第57页 |
| 5.3.4 湿法刻蚀液的配比 | 第57-58页 |
| 5.4 剥离 | 第58-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 6.PMN-0.3PT薄膜的电学性能 | 第62-68页 |
| 6.1 介电特性 | 第62-64页 |
| 6.1.1 介电频谱特性 | 第62-63页 |
| 6.1.2 介电温谱特性 | 第63-64页 |
| 6.2 C-V特性 | 第64-65页 |
| 6.3 J-V特性 | 第65-66页 |
| 6.4 电滞回线 | 第66-67页 |
| 6.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 7.结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |