| 摘要 | 第9-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 1 前言 | 第12-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 研究内容及方法 | 第12-15页 |
| 2 文献综述 | 第15-28页 |
| 2.1 染整废水特性及处理技术 | 第15-17页 |
| 2.1.1 染整废水特性 | 第15-16页 |
| 2.1.2 染整废水处理技术 | 第16-17页 |
| 2.2 H_2O_2/UV 高级氧化处理技术 | 第17-21页 |
| 2.2.1 H_2O_2/UV 高级氧化处理技术原理 | 第17-19页 |
| 2.2.2 H_2O_2/UV 技术去除有机物效果的影响因素 | 第19-21页 |
| 2.2.2.1 pH 影响 | 第19-20页 |
| 2.2.2.2 H_2O_2加药量及照光强度影响 | 第20-21页 |
| 2.3 氧化反应动力学原理 | 第21-23页 |
| 2.4 光照比能量消耗 | 第23-25页 |
| 2.5 染整放流水回收再利用目标水质规范 | 第25-28页 |
| 3 实验材料与方法 | 第28-41页 |
| 3.1 实验材料 | 第28-32页 |
| 3.1.1 人工染整废水 | 第28-30页 |
| 3.1.1.1 A 水样 | 第28-30页 |
| 3.1.1.2 B 水样 | 第30页 |
| 3.1.1.3 C 水样 | 第30页 |
| 3.1.2 实厂染整废水(D 水样) | 第30-32页 |
| 3.1.2.1 实厂染整废水处理流程 | 第30-32页 |
| 3.1.2.2 实厂染整废水水质 | 第32页 |
| 3.2 实验设备 | 第32-34页 |
| 3.2.1 H_2O_2/UV 反应设备与实验 | 第32-34页 |
| 3.2.1.1 H_2O_2/UV 光反应槽 | 第32-34页 |
| 3.2.1.2 H_2O_2/UV 氧化实验流程 | 第34页 |
| 3.2.2 混凝实验 | 第34页 |
| 3.3 分析方法 | 第34-41页 |
| 3.3.1 分子量分布分析 | 第34-35页 |
| 3.3.2 水质分析 | 第35-39页 |
| 3.3.2.1 DOC 分析 | 第35-36页 |
| 3.3.2.2 pH 检测 | 第36页 |
| 3.3.2.3 色度分析 | 第36-38页 |
| 3.3.2.4 H_2O_2残留量分析方法 | 第38-39页 |
| 3.3.3 实验药品 | 第39-41页 |
| 4 结果与讨论 | 第41-77页 |
| 4.1 H_2O_2/UV 处理 A 水样 | 第41-49页 |
| 4.1.1 H_2O_2加药量对 H_2O_2/UV 处理 A 水样的影响 | 第41-46页 |
| 4.1.2 UV 光照强度对 H_2O_2/UV 处理 A 水样的影响 | 第46-49页 |
| 4.2 H_2O_2/UV 处理 B 水样 | 第49-55页 |
| 4.2.1 混凝程序 | 第49-50页 |
| 4.2.2 H_2O_2剂量对 H_2O_2/UV 处理 B 水样的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.3 UV 光照强度对 H_2O_2/UV 处理 B 水样的影响 | 第52-55页 |
| 4.3 H_2O_2/UV 处理前后分子量分布比较 | 第55-58页 |
| 4.3.1 人工染整废水分子量分布 | 第55页 |
| 4.3.2 H_2O_2/UV 处理人工染整废水分子量的比较 | 第55-56页 |
| 4.3.3 不同氧化时间对分子量分布的影响 | 第56-58页 |
| 4.4 H_2O_2/UV 处理人工染整废水电能消耗 | 第58-66页 |
| 4.4.1 H_2O_2/UV 处理 A 水样电能消耗 | 第58-62页 |
| 4.4.2 H_2O_2/UV 处理 B 水样电能消耗 | 第62-65页 |
| 4.4.3 H_2O_2/UV 处理 C 水样电能消耗 | 第65-66页 |
| 4.5 H_2O_2/UV 处理人工染整废水综合评估 | 第66-70页 |
| 4.5.1 不同方法处理 A 水样比较 | 第66-67页 |
| 4.5.2 H_2O_2/UV 处理 B、C 水样 | 第67-70页 |
| 4.6 H_2O_2/UV 处理 D 水样 | 第70-77页 |
| 4.6.1 实厂染整废水性质 | 第70-71页 |
| 4.6.2 H_2O_2/UV 处理实厂染整放流水 | 第71-73页 |
| 4.6.3 H_2O_2/UV 处理实厂染整放流水的电能消耗 | 第73-77页 |
| 5 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
