BST薄膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 引言 | 第8-11页 |
| 1.2 BST薄膜材料的基本特性 | 第11-13页 |
| 1.2.1 钛酸锶薄膜研究 | 第12页 |
| 1.2.2 钛酸钡薄膜研究 | 第12-13页 |
| 1.2.3 钛酸锶钡薄膜研究 | 第13页 |
| 1.3 BST薄膜的制备方法 | 第13-17页 |
| 1.3.1 磁控溅射 | 第14页 |
| 1.3.2 溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第14-15页 |
| 1.3.3. 脉冲激光沉积法(PLD) | 第15-16页 |
| 1.3.4 分子束外延法(MBE) | 第16-17页 |
| 1.3.5 金属有机化学气相沉积法(MOCVD) | 第17页 |
| 1.4 论文的研究背景与内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验方法 | 第18-28页 |
| 2.1 BST薄膜沉积的工艺方法 | 第18-22页 |
| 2.1.1 RF磁控溅射原理 | 第18-20页 |
| 2.1.2 RF磁控溅射的特点及优势 | 第20页 |
| 2.1.3 本课题组采用RF磁控溅射系统简介 | 第20-22页 |
| 2.2 分析方法 | 第22-28页 |
| 2.2.1 X射线衍射原理 | 第22-23页 |
| 2.2.2 AFM工作原理 | 第23-24页 |
| 2.2.3 台阶仪工作原理 | 第24-25页 |
| 2.2.4 介电与铁电性能测试方法 | 第25-26页 |
| 2.2.5 压电性能测试方法 | 第26-28页 |
| 第3章 BST薄膜材料制备工艺研究 | 第28-38页 |
| 3.1 制备工艺研究结果 | 第28-34页 |
| 3.1.1 成膜时间 | 第28-29页 |
| 3.1.2 衬底温度 | 第29-30页 |
| 3.1.3 溅射功率 | 第30-31页 |
| 3.1.4 氧氩比 | 第31-32页 |
| 3.1.5 溅射气压 | 第32-34页 |
| 3.2 衬底取向研究 | 第34-35页 |
| 3.2.1 原理、方法 | 第34页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第34-35页 |
| 3.2.3 结构与讨论 | 第35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-38页 |
| 第4章 BST薄膜材料微结构研究 | 第38-44页 |
| 4.1 BST薄膜成分研究 | 第38-41页 |
| 4.1.1 原理与方法 | 第38-39页 |
| 4.1.2 实验过程 | 第39-40页 |
| 4.1.3 结果与讨论 | 第40-41页 |
| 4.2 BST薄膜晶体结构(晶化)研究 | 第41-43页 |
| 4.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 BST薄膜材料电压非线性研究 | 第44-52页 |
| 5.1 BST薄膜铁电性能研究 | 第44-46页 |
| 5.1.1 电滞回线 | 第44-45页 |
| 5.1.2 介电偏压特性曲线 | 第45-46页 |
| 5.2 BST薄膜压电性能研究 | 第46-49页 |
| 5.2.1 铁电畴研究 | 第47-49页 |
| 5.2.2 振幅、相位研究 | 第49页 |
| 5.3 本章小结 | 第49-52页 |
| 第6章 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 攻读硕士学位期间的科研成果 | 第64页 |
