高压下有机半导体Alq3的电输运性质和结构性质研究
| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 高压科学简介 | 第10页 |
| 1.2 产生高压的装置——金刚石对顶砧（DAC） | 第10-12页 |
| 1.3 高压下结构性质测量的两种手段 | 第12-16页 |
| 1.3.1 高压同步辐射概述 | 第12-14页 |
| 1.3.2 高压拉曼散射光谱的概述 | 第14-16页 |
| 1.4 有机分子晶体研究概况 | 第16-19页 |
| 1.4.1 有机分子晶体的特点 | 第16-17页 |
| 1.4.2 有机分子的电传输性质 | 第17-18页 |
| 1.4.3 有机分子在高压下的研究情况 | 第18-19页 |
| 1.5 本论文的选题目的和意义 | 第19-20页 |
| 1.6 本论文各部分的主要内容 | 第20-21页 |
| 第二章 高压原位电学测量集成技术和方法 | 第21-34页 |
| 2.1 高压下原位电学测量方法的概述 | 第21-22页 |
| 2.2 测量微电路在 DAC 上的集成 | 第22-29页 |
| 2.2.1 钼薄膜的溅射 | 第22-23页 |
| 2.2.2 金属钼薄膜的光刻过程 | 第23-24页 |
| 2.2.3 溅射氧化铝薄膜制备绝缘层和保护层 | 第24-25页 |
| 2.2.4 成型的四电极和两电极测量微电路 | 第25-27页 |
| 2.2.5 带测量微电路的 DAC 样品的组装 | 第27-29页 |
| 2.3 交流阻抗谱的测量方法 | 第29-34页 |
| 2.3.1 交流阻抗谱原理 | 第29-30页 |
| 2.3.2 交流阻抗谱的表示方法 | 第30-32页 |
| 2.3.3 交流阻抗谱的测试装置 | 第32-34页 |
| 第三章 高压下 Alq3的结构性质研究 | 第34-46页 |
| 3.1 Alq_3的研究背景 | 第34-39页 |
| 3.2 样品 Alq_3的 XRD 表征 | 第39-40页 |
| 3.3 高压 X 射线衍射光谱的实验测量 | 第40-42页 |
| 3.4 高压拉曼光谱的测量 | 第42-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 高压下 Alq_3交流阻抗谱的研究 | 第46-52页 |
| 4.1 高压下样品 Alq_3交流阻抗谱 | 第46-50页 |
| 4.2 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 总结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-64页 |
| 作者简介 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
