| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 ZnO的结构及基本性质 | 第12-14页 |
| 1.2 ZnO薄膜的压电性质 | 第14-16页 |
| 1.3 悬臂梁式ZnO压电薄膜的发展概况 | 第16-17页 |
| 1.4 本文的研究意义及主要研究内容 | 第17-18页 |
| 1.5 本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 样品制备及性能表征手段 | 第19-27页 |
| 2.1 样品制备 | 第19-22页 |
| 2.1.1 磁控溅射法原理 | 第19-20页 |
| 2.1.2 AZO和ZnO薄膜制备过程 | 第20-22页 |
| 2.2 AZO和ZnO薄膜的性能表征手段 | 第22-26页 |
| 2.2.1 微结构表征:XRD、SEM、台阶仪 | 第22-23页 |
| 2.2.2 光学性能表征:UV | 第23-24页 |
| 2.2.3 电学性能表征:四探针测电阻 | 第24-25页 |
| 2.2.4 组分分析:XPS | 第25页 |
| 2.2.5 压电输出电压表征:振动台和示波器 | 第25-26页 |
| 2.3 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 AZO透明电极的制备及光电性能的研究 | 第27-52页 |
| 3.1 样品制备 | 第27-29页 |
| 3.2 沉积厚度对AZO薄膜的微结构和光电性能的影响 | 第29-33页 |
| 3.2.1 微结构 | 第29-31页 |
| 3.2.2 光学性能 | 第31-32页 |
| 3.2.3 电学性能 | 第32-33页 |
| 3.3 溅射功率对AZO薄膜的微结构和光电性能的影响 | 第33-38页 |
| 3.3.1 微结构 | 第33-36页 |
| 3.3.2 光学性能 | 第36-37页 |
| 3.3.3 电学性能 | 第37-38页 |
| 3.4 工作压强对AZO薄膜的微结构和光电性能的影响 | 第38-42页 |
| 3.4.1 微结构 | 第38-40页 |
| 3.4.2 光学性能 | 第40-41页 |
| 3.4.3 电学性能 | 第41-42页 |
| 3.5 沉积温度对AZO薄膜的微结构和光电性能的影响 | 第42-46页 |
| 3.5.1 微结构 | 第42-44页 |
| 3.5.2 光学性能 | 第44页 |
| 3.5.3 电学性能 | 第44-45页 |
| 3.5.4 组分分析 | 第45-46页 |
| 3.6 预应力对AZO薄膜的微结构和光电性能的影响 | 第46-50页 |
| 3.6.1 微结构 | 第47-48页 |
| 3.6.2 光学性能 | 第48-49页 |
| 3.6.3 电学性能 | 第49-50页 |
| 3.7 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 磁控溅射法制备ZnO薄膜及其性能研究 | 第52-62页 |
| 4.1 退火处理对不锈钢柔性基底上制备的ZnO薄膜的性能影响 | 第52-55页 |
| 4.1.1 样品制备 | 第52-53页 |
| 4.1.2 微结构 | 第53-54页 |
| 4.1.3 光学性能 | 第54-55页 |
| 4.1.4 总结 | 第55页 |
| 4.2 氧氩比对聚合物透明柔性基底上制备的ZnO薄膜的性能影响 | 第55-61页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第55-56页 |
| 4.2.2 微结构 | 第56-59页 |
| 4.2.3 光学性能 | 第59-60页 |
| 4.2.4 总结 | 第60-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 ZnO基压电振动能量采集器的构建及性能优化 | 第62-73页 |
| 5.1 压电悬臂梁结构的构建及理论研究 | 第62-64页 |
| 5.2 不锈钢基底ZnO基压电振动能量采集器的构建与性能优化 | 第64-70页 |
| 5.2.1 退火处理对ZnO基压电能量采集器的性能影响 | 第64-68页 |
| 5.2.2 压电薄膜厚度和退火处理对ZnO基压电能量采集器的性能影响. | 第68-70页 |
| 5.3 全透明柔性基底ZnO基压电振动能量采集器的制备及性能研究 | 第70-72页 |
| 5.4 本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论与展望 | 第73-76页 |
| 6.1 结论 | 第73-75页 |
| 6.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文、参与项目、学术会议及奖励荣誉一览 | 第86-87页 |
