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激光辅助水射流加工4H-SiC材料的工艺与去除机理研究

摘要第10-12页
Abstract第12-13页
第1章 绪论第14-20页
    1.1 激光加工技术和激光复合加工技术的研究现状第14-18页
        1.1.1 激光加工硬脆材料的研究现状第14-15页
        1.1.2 激光加工微流道的研究现状第15-16页
        1.1.3 激光复合加工技术的研究现状第16-18页
    1.2 激光加工单晶SiC材料的研究现状第18页
    1.3 激光辅助水射流加工单晶碳化硅时存在的问题第18-19页
    1.4 本文的研究目的、意义和主要研究内容第19-20页
        1.4.1 研究目的、意义第19页
        1.4.2 主要研究内容第19-20页
第2章 激光辅助水射流微细加工4H-SiC的实验研究第20-38页
    2.1 激光辅助水射流微细加工的实验条件第20-22页
        2.1.1 激光辅助水射流微细加工系统第20-21页
        2.1.2 实验结果测量第21-22页
    2.2 激光和激光复合加工4H-SiC的实验研究第22-25页
        2.2.1 实验方案第22-23页
        2.2.2 实验结果与分析第23-25页
    2.3 激光辅助水射流微细加工4H-SiC的实验研究第25-34页
        2.3.1 改善微槽截面形貌的方法第25-26页
        2.3.2 实验方案第26-27页
        2.3.3 实验结果与分析第27-34页
    2.4 微流道加工第34-36页
    2.5 本章小结第36-38页
第3章 激光辅助水射流微细加工4H-SiC的微槽尺寸和表面粗糙度预测第38-46页
    3.1 基于响应曲面法的激光辅助水射流微细加工4H-SiC微槽的实验研究第38-39页
        3.1.1 响应曲面法简介第38页
        3.1.2 响应曲面法实验方案第38-39页
    3.2 微槽深宽比和侧面粗糙度预测模型的建立第39-42页
    3.3 加工参数选择与优化第42-44页
        3.3.1 加工参数的选择第42-43页
        3.3.2 加工参数的优化和验证第43-44页
    3.4 本章小结第44-46页
第4章 激光辅助水射流微细加工4H-SiC的温度场仿真第46-58页
    4.1 温度场模型求解第46-47页
    4.2 温度场的有限元模型第47-52页
        4.2.1 有限元模型的假设条件第47-48页
        4.2.2 激光热源模型的建立第48-51页
        4.2.3 温度场模型建立第51-52页
        4.2.4 载荷和边界条件第52页
    4.3 温度场的仿真结果与分析第52-56页
    4.4 本章小结第56-58页
第5章 激光辅助水射流微细加工4H-SiC的材料去除机理研究第58-66页
    5.1 激光辅助水射流微细加工原理第58-62页
        5.1.1 脉冲激光加工4H-SiC的过程分析第58-59页
        5.1.2 水射流的冲击作用和冷却作用第59-62页
    5.2 激光辅助水射流微细加工4H-SiC的材料去除机理第62-65页
    5.3 本章小结第65-66页
结论与展望第66-68页
参考文献第68-74页
攻读硕士学位期间发表的论文和获得的奖励第74-76页
致谢第76-77页
学位论文评阅及答辩情况表第77页

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