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用于无机EL器件绝缘层的Al2O3薄膜的制备

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 无机 EL 平板显示技术研究进展第9-17页
    1.1 无机 EL 显示的基本原理第9-10页
    1.2 无机 EL 器件中各层的作用、要求及研究现状第10-14页
    1.3 无机 EL 显示器和其他平板显示器的性能比较第14-16页
    1.4 本人的工作内容第16-17页
第二章 无机 EL 的发展历史第17-27页
    2.1 TFEL 和 TDEL 的发展历程第17-19页
    2.2 TDEL 的研究第19-22页
    2.3 TFEL 的研究第22-25页
    2.4 无机 EL 在国内的发展第25-26页
    2.5 本章小结第26-27页
第三章 无机 EL 显示器件所使用的介质材料第27-46页
    3.1 无机 EL 的介质要求第27-29页
    3.2 BST 薄膜的研究进展第29-41页
    3.3 TA2O5薄膜的研究进展第41-45页
    3.4 本章小结第45-46页
第四章 AL_2O_3薄膜的制备和研究第46-57页
    4.1 AL_2O_3的结构、特性和应用第46页
    4.2 AL_2O_3薄膜的制备方法第46-47页
    4.3 沉积工艺对 AL_2O_3薄膜沉积速率的影响第47-51页
    4.4 沉积工艺对 AL_2O_3薄膜介电性能的影响第51-52页
    4.5 脉冲反应溅射和电子束蒸发 AL_2O_3薄膜的介电性能比较第52-53页
    4.6 脉冲反应溅射和电子束蒸发 AL_2O_3薄膜在 TFEL 的应用第53-55页
    4.7 本章小结第55-57页
第五章 总结和展望第57-59页
    5.1 全文总结第57页
    5.2 展望第57-59页
参考文献第59-63页
致谢第63-64页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第64-66页

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