多晶硅生产中二氯二氢硅反歧化操作优化研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 文献综述 | 第8-24页 |
| 1.1 二氯二氢硅的性质 | 第9-10页 |
| 1.1.1 二氯二氢硅的理化性质 | 第9页 |
| 1.1.2 二氯二氢硅的危险性研究 | 第9-10页 |
| 1.1.3 二氯二氢硅的市场及发展 | 第10页 |
| 1.2 多晶硅主要生产工艺介绍 | 第10-14页 |
| 1.2.1 改良西门子法工艺 | 第10-12页 |
| 1.2.2 硅烷法工艺 | 第12-13页 |
| 1.2.3 冶金法工艺 | 第13-14页 |
| 1.3 二氯二氢硅产生的途径 | 第14-16页 |
| 1.3.1 三氯氢硅合成系统中产生二氯二氢硅 | 第14页 |
| 1.3.2 多晶硅还原系统产生二氯二氢硅 | 第14-15页 |
| 1.3.3 四氯化硅氢化系统产生二氯二氢硅 | 第15-16页 |
| 1.4 二氯二氢硅的处理和利用 | 第16-19页 |
| 1.4.1 二氯二氢硅的水解处理 | 第16页 |
| 1.4.2 二氯二氢硅在多晶硅还原系统中的应用 | 第16-18页 |
| 1.4.3 二氯二氢硅在四氯化硅氢化系统中的应用 | 第18-19页 |
| 1.5 二氯二氢硅反歧化介绍 | 第19-21页 |
| 1.5.1 反歧化工艺 | 第19页 |
| 1.5.2 二氯二氢硅反歧化催化剂 | 第19-21页 |
| 1.6 二氯二氢硅反歧化研究课题的意义和内容 | 第21-24页 |
| 1.6.1 二氯二氢硅反歧化研究课题的意义 | 第21-22页 |
| 1.6.2 二氯二氢硅反歧化研究的内容 | 第22-24页 |
| 第2章 二氯二氢硅反歧化实验分析方法 | 第24-30页 |
| 2.1 二氯二氢硅反歧化实验分析主要仪器和试剂 | 第24-27页 |
| 2.1.1 气相色谱法 | 第24-26页 |
| 2.1.2 等离子体质谱法 | 第26-27页 |
| 2.2 二氯二氢硅反歧化实验分析方法 | 第27-30页 |
| 2.2.1 液体氯硅烷中组分含量的分析方法 | 第27-28页 |
| 2.2.2 液体氯硅烷中杂质元素分析方法 | 第28-30页 |
| 第3章 二氯二氢硅反歧化实验内容与结果分析 | 第30-48页 |
| 3.1 二氯二氢硅反歧化实验内容 | 第30-34页 |
| 3.1.1 二氯二氢硅反歧化树脂的选择 | 第30-31页 |
| 3.1.2 二氯二氢硅反歧化生产线调试及反应 | 第31-34页 |
| 3.2 实验结果和分析 | 第34-46页 |
| 3.2.1 反应温度对反歧化影响的结果和分析 | 第34-35页 |
| 3.2.2 反应压力对反歧化影响的结果和分析 | 第35-36页 |
| 3.2.3 摩尔配比对反歧化影响的结果和分析 | 第36-38页 |
| 3.2.4 进料量对反歧化影响的结果和分析 | 第38-39页 |
| 3.2.5 杂质对反歧化影响的结果和分析 | 第39-43页 |
| 3.2.6 其他因素对反歧化影响的结果和分析 | 第43-46页 |
| 3.3 小结 | 第46-48页 |
| 第4章 结论与展望 | 第48-50页 |
| 4.1 论文结论 | 第48-49页 |
| 4.2 论文展望 | 第49-50页 |
| 文献引用 | 第50-54页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
