摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 磁流变抛光简介 | 第11-12页 |
1.2 磁流变抛光轮表面处理 | 第12-14页 |
1.2.1 电镀工艺 | 第12页 |
1.2.2 阳极氧化工艺 | 第12-13页 |
1.2.3 热喷涂工艺 | 第13页 |
1.2.4 激光表面处理工艺 | 第13-14页 |
1.2.5 化学转化膜工艺 | 第14页 |
1.3 微弧氧化工艺 | 第14-19页 |
1.3.1 微弧氧化技术简介 | 第14-16页 |
1.3.2 微弧氧化膜的成膜过程和结构 | 第16-17页 |
1.3.3 微弧氧化技术国内外发展状况 | 第17-18页 |
1.3.4 微弧氧化陶瓷膜摩擦性能的研究现状 | 第18-19页 |
1.4 选题依据及研究内容 | 第19-21页 |
1.4.1 本论文的选题依据 | 第19-20页 |
1.4.2 研究内容 | 第20-21页 |
第二章 实验材料、设备和方法 | 第21-29页 |
2.1 实验材料及制备 | 第21-23页 |
2.1.1 实验材料的选用 | 第21页 |
2.1.2 实验材料的制备 | 第21-22页 |
2.1.3 电解液的配置 | 第22页 |
2.1.4 磁流变抛光液 | 第22-23页 |
2.2 实验设备 | 第23-24页 |
2.2.1 微弧氧化实验装置 | 第23-24页 |
2.2.2 其他设备 | 第24页 |
2.3 实验体系的确定 | 第24-25页 |
2.3.1 电解液体系 | 第24-25页 |
2.3.2 电源方案 | 第25页 |
2.4 实验方案及技术路线 | 第25-27页 |
2.4.1 实验方案 | 第25-26页 |
2.4.2 技术路线 | 第26-27页 |
2.5 分析测试仪器 | 第27-29页 |
2.5.1 微弧氧化膜的微观形貌观察 | 第27页 |
2.5.2 微弧氧化膜相组成测试 | 第27-28页 |
2.5.3 微弧氧化膜厚度检测 | 第28页 |
2.5.4 微弧氧化膜表面粗糙度测试 | 第28页 |
2.5.5 微弧氧化膜耐磨性能的测试与分析 | 第28-29页 |
第三章 恒压模式下磁流变抛光轮的微弧氧化工艺研究 | 第29-42页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 恒压模式正交试验方案设计 | 第29-31页 |
3.2.1 电解液参数确定 | 第29-30页 |
3.2.2 电源参数确定 | 第30页 |
3.2.3 正交试验设计 | 第30-31页 |
3.3 恒压模式制备的膜层显微组织及结构分析 | 第31-37页 |
3.3.1 正交试验膜层表面形貌、截面形貌分析 | 第31-35页 |
3.3.2 正交试验膜层表面粗糙度分析 | 第35-36页 |
3.3.3 正交试验膜层相结构分析 | 第36页 |
3.3.4 正交试验膜层厚度分析 | 第36-37页 |
3.4 恒压模式制备的膜层耐磨性分析 | 第37-41页 |
3.5 本章小结 | 第41-42页 |
第四章 恒流模式下磁流变抛光轮的微弧氧化工艺研究 | 第42-61页 |
4.1 引言 | 第42页 |
4.2 恒流模式正交试验设计 | 第42-43页 |
4.2.1 电解液参数的确定 | 第42-43页 |
4.2.2 电源参数的确定 | 第43页 |
4.2.3 正交试验设计 | 第43页 |
4.3 恒流模式正交试验结果分析 | 第43-46页 |
4.4 单个因素对膜层显微组织及耐磨性能的影响 | 第46-59页 |
4.4.1 Na_2SiO_3浓度对膜层显微组织及耐磨性影响 | 第46-52页 |
4.4.2 KOH浓度对膜层显微组织及耐磨性影响 | 第52-55页 |
4.4.3 正相电流密度对膜层显微组织及耐磨性影响 | 第55-59页 |
4.5 本章小结 | 第59-61页 |
第五章 磁流变抛光轮在磁流变液中的摩擦性能研究 | 第61-67页 |
5.1 引言 | 第61页 |
5.2 三种样品在磁流变液中的摩擦性能 | 第61-63页 |
5.3 摩擦时间对铝制抛光轮和恒流MAO膜层磨损的影响 | 第63-64页 |
5.4 微弧氧化陶瓷膜在不同环境中的磨损机制探讨 | 第64-66页 |
5.5 本章小结 | 第66-67页 |
第六章 结论 | 第67-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-75页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第75-76页 |