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磁流变抛光轮表面的微弧氧化处理及其摩擦性能研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-21页
    1.1 磁流变抛光简介第11-12页
    1.2 磁流变抛光轮表面处理第12-14页
        1.2.1 电镀工艺第12页
        1.2.2 阳极氧化工艺第12-13页
        1.2.3 热喷涂工艺第13页
        1.2.4 激光表面处理工艺第13-14页
        1.2.5 化学转化膜工艺第14页
    1.3 微弧氧化工艺第14-19页
        1.3.1 微弧氧化技术简介第14-16页
        1.3.2 微弧氧化膜的成膜过程和结构第16-17页
        1.3.3 微弧氧化技术国内外发展状况第17-18页
        1.3.4 微弧氧化陶瓷膜摩擦性能的研究现状第18-19页
    1.4 选题依据及研究内容第19-21页
        1.4.1 本论文的选题依据第19-20页
        1.4.2 研究内容第20-21页
第二章 实验材料、设备和方法第21-29页
    2.1 实验材料及制备第21-23页
        2.1.1 实验材料的选用第21页
        2.1.2 实验材料的制备第21-22页
        2.1.3 电解液的配置第22页
        2.1.4 磁流变抛光液第22-23页
    2.2 实验设备第23-24页
        2.2.1 微弧氧化实验装置第23-24页
        2.2.2 其他设备第24页
    2.3 实验体系的确定第24-25页
        2.3.1 电解液体系第24-25页
        2.3.2 电源方案第25页
    2.4 实验方案及技术路线第25-27页
        2.4.1 实验方案第25-26页
        2.4.2 技术路线第26-27页
    2.5 分析测试仪器第27-29页
        2.5.1 微弧氧化膜的微观形貌观察第27页
        2.5.2 微弧氧化膜相组成测试第27-28页
        2.5.3 微弧氧化膜厚度检测第28页
        2.5.4 微弧氧化膜表面粗糙度测试第28页
        2.5.5 微弧氧化膜耐磨性能的测试与分析第28-29页
第三章 恒压模式下磁流变抛光轮的微弧氧化工艺研究第29-42页
    3.1 引言第29页
    3.2 恒压模式正交试验方案设计第29-31页
        3.2.1 电解液参数确定第29-30页
        3.2.2 电源参数确定第30页
        3.2.3 正交试验设计第30-31页
    3.3 恒压模式制备的膜层显微组织及结构分析第31-37页
        3.3.1 正交试验膜层表面形貌、截面形貌分析第31-35页
        3.3.2 正交试验膜层表面粗糙度分析第35-36页
        3.3.3 正交试验膜层相结构分析第36页
        3.3.4 正交试验膜层厚度分析第36-37页
    3.4 恒压模式制备的膜层耐磨性分析第37-41页
    3.5 本章小结第41-42页
第四章 恒流模式下磁流变抛光轮的微弧氧化工艺研究第42-61页
    4.1 引言第42页
    4.2 恒流模式正交试验设计第42-43页
        4.2.1 电解液参数的确定第42-43页
        4.2.2 电源参数的确定第43页
        4.2.3 正交试验设计第43页
    4.3 恒流模式正交试验结果分析第43-46页
    4.4 单个因素对膜层显微组织及耐磨性能的影响第46-59页
        4.4.1 Na_2SiO_3浓度对膜层显微组织及耐磨性影响第46-52页
        4.4.2 KOH浓度对膜层显微组织及耐磨性影响第52-55页
        4.4.3 正相电流密度对膜层显微组织及耐磨性影响第55-59页
    4.5 本章小结第59-61页
第五章 磁流变抛光轮在磁流变液中的摩擦性能研究第61-67页
    5.1 引言第61页
    5.2 三种样品在磁流变液中的摩擦性能第61-63页
    5.3 摩擦时间对铝制抛光轮和恒流MAO膜层磨损的影响第63-64页
    5.4 微弧氧化陶瓷膜在不同环境中的磨损机制探讨第64-66页
    5.5 本章小结第66-67页
第六章 结论第67-69页
致谢第69-70页
参考文献第70-75页
攻读硕士学位期间取得的成果第75-76页

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