随机粗糙面光散射的后向增强效应研究
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
符号对照表 | 第11-12页 |
缩略语对照表 | 第12-15页 |
第一章 绪论 | 第15-21页 |
1.1 研究背景与意义 | 第15-16页 |
1.2 国内外研究现状 | 第16-19页 |
1.3 论文结构和安排 | 第19-21页 |
第二章 大粗糙度粗糙面光散射的后向增强效应 | 第21-33页 |
2.1 一阶基尔霍夫近似理论 | 第21-23页 |
2.2 二阶基尔霍夫近似理论 | 第23-27页 |
2.3 遮蔽函数 | 第27-29页 |
2.4 一维高斯随机粗糙面的计算结果与分析 | 第29-32页 |
2.5 本章小结 | 第32-33页 |
第三章 一维微粗糙金属粗糙面光散射的后向增强效应 | 第33-53页 |
3.1 一维粗糙面电磁散射的微扰理论 | 第33-39页 |
3.1.1 平均微分反射系数 | 第33-35页 |
3.1.2 退化的瑞利方程 | 第35-36页 |
3.1.3 小振幅微扰理论 | 第36-39页 |
3.2 微粗糙金属粗糙面后向增强的物理机制 | 第39-42页 |
3.2.1 金属表面等离子体激元 | 第39-41页 |
3.2.2 后向增强的物理机制 | 第41-42页 |
3.3 一维高斯随机粗糙面的计算结果与分析 | 第42-45页 |
3.4 一维矩形谱粗糙面的计算结果与分析 | 第45-50页 |
3.4.1 矩形谱函数 | 第45-46页 |
3.4.2 计算结果与分析 | 第46-50页 |
3.5 本章小结 | 第50-53页 |
第四章 二维微粗糙金属粗糙面光散射的后向增强效应 | 第53-63页 |
4.1 二维粗糙面电磁散射的微扰理论 | 第53-56页 |
4.2 二维高斯随机粗糙面的计算结果与分析 | 第56-59页 |
4.3 二维圆柱谱粗糙面的计算结果与分析 | 第59-62页 |
4.3.1 圆柱型谱函数 | 第59页 |
4.3.2 计算结果与分析 | 第59-62页 |
4.4 本章小结 | 第62-63页 |
第五章 分层微粗糙表面光散射的后向增强效应 | 第63-81页 |
5.1 分层结构中的微扰理论 | 第63-67页 |
5.2 分层结构中后向增强和伴峰产生的机制 | 第67-69页 |
5.3 微粗糙金属薄层表面的光散射特性 | 第69-73页 |
5.3.1 金属薄层中导波的色散关系 | 第69-70页 |
5.3.2 金属薄层表面光散射的计算结果与分析 | 第70-73页 |
5.4 理想导体上方涂覆介质薄层表面的光散射特性 | 第73-79页 |
5.4.1 介质薄层中导波的色散关系 | 第73-74页 |
5.4.2 介质薄层表面光散射的计算结果与分析 | 第74-79页 |
5.5 本章小结 | 第79-81页 |
第六章 总结与展望 | 第81-83页 |
6.1 本文总结 | 第81-82页 |
6.2 研究展望 | 第82-83页 |
参考文献 | 第83-89页 |
致谢 | 第89-91页 |
作者简介 | 第91-92页 |