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微纳CT线阵焦点射线源的高功率X射线转换靶研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
1 绪论第9-15页
    1.1 微纳焦点射线源的应用第9-11页
    1.2 微纳焦点射线源的国内外研究现状第11-12页
    1.3 课题的来源及研究意义第12页
        1.3.1 课题的来源第12页
        1.3.2 课题的研究意义第12页
    1.4 课题的技术路线以及创新之处第12-14页
        1.4.1 课题的技术路线第12-13页
        1.4.2 课题的创新之处第13-14页
    1.5 论文结构安排第14-15页
2 微纳CT射线源第15-27页
    2.1 射线源有效焦点尺寸与图像分辨率第15-17页
    2.2 微焦射线源的基本结构和类型第17-20页
        2.2.1 微焦射线源的基本结构第17-18页
        2.2.2 微焦射线源的类型第18-20页
    2.3 微焦射线源的主要技术参数第20-22页
    2.4 微焦射线源的局限性与未来发展趋势第22-26页
    2.5 本章小结第26-27页
3 微纳CT线阵焦点射线源的射线靶的设计与仿真第27-41页
    3.1 线阵X射线靶的结构设计第27页
    3.2 X射线靶的X射线转换效率理论计算第27-32页
        3.2.1 X射线靶的转换效率第27-30页
        3.2.2 线阵X射线靶的材料选型第30-32页
    3.3 线阵X射线靶的仿真第32-40页
        3.3.1 蒙特卡罗仿真软件介绍第32-34页
        3.3.2 线阵X射线靶的仿真模型第34-36页
        3.3.3 线阵X射线靶的仿真分析第36-40页
    3.4 本章小结第40-41页
4 线阵焦点射线源的射线靶制作与实验测试第41-56页
    4.1 线阵靶的制作方案第41-42页
    4.2 CVD金刚石射线靶基底加工制作第42-44页
    4.3 CVD金刚石的飞秒激光加工第44-49页
        4.3.1 飞秒激光微加工设备及主要参数第45-46页
        4.3.2 飞秒激光孔洞微加工第46-49页
    4.4 CVD金刚石表面上钛膜沉积第49-53页
        4.4.1 离子溅射镀膜方式第49-50页
        4.4.2 磁控溅射镀膜设备及主要参数第50-51页
        4.4.3 磁控溅射钛膜第51-53页
    4.5 实验测试第53-55页
    4.6 本章小结第55-56页
5 总结和展望第56-58页
    5.1 论文总结第56页
    5.2 课题展望第56-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-62页
附录第62页
    A 作者在攻读学位期间发表的论文目录第62页
    B 作者在攻读学位期间受理专利目录第62页

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