微纳CT线阵焦点射线源的高功率X射线转换靶研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 微纳焦点射线源的应用 | 第9-11页 |
| 1.2 微纳焦点射线源的国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 课题的来源及研究意义 | 第12页 |
| 1.3.1 课题的来源 | 第12页 |
| 1.3.2 课题的研究意义 | 第12页 |
| 1.4 课题的技术路线以及创新之处 | 第12-14页 |
| 1.4.1 课题的技术路线 | 第12-13页 |
| 1.4.2 课题的创新之处 | 第13-14页 |
| 1.5 论文结构安排 | 第14-15页 |
| 2 微纳CT射线源 | 第15-27页 |
| 2.1 射线源有效焦点尺寸与图像分辨率 | 第15-17页 |
| 2.2 微焦射线源的基本结构和类型 | 第17-20页 |
| 2.2.1 微焦射线源的基本结构 | 第17-18页 |
| 2.2.2 微焦射线源的类型 | 第18-20页 |
| 2.3 微焦射线源的主要技术参数 | 第20-22页 |
| 2.4 微焦射线源的局限性与未来发展趋势 | 第22-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 微纳CT线阵焦点射线源的射线靶的设计与仿真 | 第27-41页 |
| 3.1 线阵X射线靶的结构设计 | 第27页 |
| 3.2 X射线靶的X射线转换效率理论计算 | 第27-32页 |
| 3.2.1 X射线靶的转换效率 | 第27-30页 |
| 3.2.2 线阵X射线靶的材料选型 | 第30-32页 |
| 3.3 线阵X射线靶的仿真 | 第32-40页 |
| 3.3.1 蒙特卡罗仿真软件介绍 | 第32-34页 |
| 3.3.2 线阵X射线靶的仿真模型 | 第34-36页 |
| 3.3.3 线阵X射线靶的仿真分析 | 第36-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 线阵焦点射线源的射线靶制作与实验测试 | 第41-56页 |
| 4.1 线阵靶的制作方案 | 第41-42页 |
| 4.2 CVD金刚石射线靶基底加工制作 | 第42-44页 |
| 4.3 CVD金刚石的飞秒激光加工 | 第44-49页 |
| 4.3.1 飞秒激光微加工设备及主要参数 | 第45-46页 |
| 4.3.2 飞秒激光孔洞微加工 | 第46-49页 |
| 4.4 CVD金刚石表面上钛膜沉积 | 第49-53页 |
| 4.4.1 离子溅射镀膜方式 | 第49-50页 |
| 4.4.2 磁控溅射镀膜设备及主要参数 | 第50-51页 |
| 4.4.3 磁控溅射钛膜 | 第51-53页 |
| 4.5 实验测试 | 第53-55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 总结和展望 | 第56-58页 |
| 5.1 论文总结 | 第56页 |
| 5.2 课题展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 附录 | 第62页 |
| A 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第62页 |
| B 作者在攻读学位期间受理专利目录 | 第62页 |