摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-22页 |
1.1 半导体光催化剂研究概述 | 第11-13页 |
1.1.1 研究背景 | 第11页 |
1.1.2 光催化降解有机污染物的基本原理 | 第11-13页 |
1.2 金属氧化物光催化材料的研究现状 | 第13-18页 |
1.2.1 二元金属氧化物 | 第13-15页 |
1.2.2 层状钙钛矿结构多元金属氧化物 | 第15-18页 |
1.3 提高光催化剂性能的途径 | 第18-20页 |
1.3.1 掺杂 | 第18-19页 |
1.3.2 光敏化 | 第19页 |
1.3.3 贵金属沉积 | 第19-20页 |
1.3.4 半导体材料复合 | 第20页 |
1.4 本课题的研究意义与主要内容 | 第20-22页 |
第二章 AgI/WO_3无媒介直接Z型纳米异质结复合材料的合成及其可见光催化性能研究 | 第22-38页 |
2.1 引言 | 第22-23页 |
2.2 实验部分 | 第23-25页 |
2.2.1 实验试剂 | 第23页 |
2.2.2 实验仪器 | 第23-24页 |
2.2.3 催化剂的制备 | 第24页 |
2.2.4 样品表征 | 第24-25页 |
2.2.5 光催化活性实验 | 第25页 |
2.3 结果与讨论 | 第25-37页 |
2.3.1 XRD与XPS分析 | 第25-28页 |
2.3.3 光催化性能与稳定性 | 第28-30页 |
2.3.4 PL、EIS与光电流分析 | 第30-32页 |
2.3.5 光降解中间产物分析 | 第32-34页 |
2.3.6 UV-Vis DRS分析 | 第34-35页 |
2.3.7 光催化机理探讨 | 第35-37页 |
2.4 本章小结 | 第37-38页 |
第三章g-C_3N_4/K~+Ca_2Nb_3O_(10)~-纳米异质结复合光催化材料的制备及其可见光催化性能研究 | 第38-55页 |
3.1 引言 | 第38-39页 |
3.2 实验部分 | 第39-41页 |
3.2.1 实验试剂 | 第39页 |
3.2.2 实验仪器 | 第39-40页 |
3.2.3 K~+Ca_2Nb_3O_(10)~?超薄纳米片的制备 | 第40页 |
3.2.4 g-C_3N_4纳米片的制备 | 第40页 |
3.2.5 CN/KCNO纳米异质结的构筑 | 第40-41页 |
3.2.6 样品表征 | 第41页 |
3.2.7 光催化活性实验 | 第41页 |
3.3 结果与讨论 | 第41-54页 |
3.3.1 XRD、FT-IR与XPS分析 | 第41-43页 |
3.3.2 形貌与结构分析 | 第43-46页 |
3.3.3 光催化性能与稳定性 | 第46-47页 |
3.3.4 光电性质 | 第47-49页 |
3.3.5 光降解中间产物分析 | 第49-51页 |
3.3.6 UV-Vis DRS分析 | 第51-52页 |
3.3.7 机理探讨 | 第52-54页 |
3.4 本章小结 | 第54-55页 |
第四章 GO/K~+Ca_2Nb_3O_(10)~-复合光催化材料的制备及其可见光催化性能研究 | 第55-67页 |
4.1 引言 | 第55-56页 |
4.2 实验部分 | 第56-57页 |
4.2.1 实验试剂 | 第56页 |
4.2.2 实验仪器 | 第56页 |
4.2.3 K~+Ca_2Nb_3O_(10)~?超薄纳米片的制备 | 第56页 |
4.2.4 GO纳米片的制备 | 第56页 |
4.2.5 GO/KCNO复合光催化剂的制备 | 第56页 |
4.2.6 样品表征 | 第56-57页 |
4.2.7 光催化活性实验 | 第57页 |
4.3 结果与讨论 | 第57-66页 |
4.3.1 XRD、FT-IR与XPS分析 | 第57-59页 |
4.3.2 微观结构与形貌分析 | 第59-61页 |
4.3.3 光催化活性与稳定性 | 第61-62页 |
4.3.4 UV-Vis DRS | 第62-63页 |
4.3.5 PL分析 | 第63页 |
4.3.6 光电流与电化学阻抗分析 | 第63-64页 |
4.3.7 机理探讨 | 第64-66页 |
4.4 本章小结 | 第66-67页 |
第五章 结论与展望 | 第67-69页 |
5.1 结论 | 第67-68页 |
5.2 展望 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-88页 |
致谢 | 第88-89页 |
攻读学位期间主要的科研成果 | 第89页 |