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氧化石墨烯修饰碳糊电极的制备及在铜离子检测中的应用

摘要第8-9页
Abstract第9-10页
第1章 绪论第11-19页
    1.1 引言第11页
    1.2 碳糊电极(CPE)第11-12页
    1.3 化学修饰碳糊电极(CMCPE)第12-14页
        1.3.1 化学修饰剂的选择第12页
        1.3.2 化学修饰碳糊电极的制备方法第12-13页
        1.3.3 化学修饰碳糊电极的表征第13页
        1.3.4 化学修饰碳糊电极的应用第13-14页
        1.3.5 化学修饰碳糊电极的发展趋势第14页
    1.4 石墨烯第14-17页
        1.4.1 石墨烯的简介第14-16页
        1.4.2 石墨烯材料的应用第16-17页
    1.5 乙二胺四乙酸(EDTA)第17页
    1.6 本文研究的目的、意义及主要内容第17-19页
第2章 实验材料与方法第19-25页
    2.1 实验药品和仪器第19-20页
    2.2 实验研究方法和手段第20-25页
        2.2.1 电化学测试第20页
        2.2.2 循环伏安法第20-21页
        2.2.3 三电极体系第21-22页
        2.2.4 线性扫描伏安法第22页
        2.2.5 PS4.0 型微机极谱分析仪第22-23页
        2.2.6 溶出伏安法第23页
        2.2.7 脉冲伏安法第23-25页
第3章 氧化石墨烯修饰碳糊电极测定铜离子第25-33页
    3.1 引言第25页
    3.2 实验部分第25-27页
        3.2.1 氧化石墨烯的制备第25-26页
        3.2.2 氧化石墨烯的SEM分析第26-27页
        3.2.3 氧化石墨烯修饰碳糊电极的制备第27页
        3.2.4 测定方法第27页
    3.3 结果与讨论第27-32页
        3.3.1 铜离子在氧化石墨烯修饰碳糊电极上的电化学行为第27-28页
        3.3.2 不同比例修饰剂对电极的影响第28-29页
        3.3.3 不同底液pH值对电极的影响第29-30页
        3.3.4 不同扫描速率对电极的影响第30页
        3.3.5 电极的标准曲线和检出限第30-31页
        3.3.6 离子选择性实验第31页
        3.3.7 电极的重现性与稳定性第31-32页
        3.3.8 分析应用第32页
    3.4 本章小结第32-33页
第4章 EDTA修饰碳糊电极测定铜离子第33-40页
    4.1 引言第33页
    4.2 实验部分第33-34页
        4.2.1 EDTA修饰碳糊电极的制备第33-34页
        4.2.2 测定方法第34页
    4.3 结果与讨论第34-38页
        4.3.1 铜离子在EDTA修饰碳糊电极上的电化学行为第34-35页
        4.3.2 不同比例修饰剂对电极的影响第35页
        4.3.3 不同底液pH值对电极的影响第35-36页
        4.3.4 不同扫描速率对电极的影响第36-37页
        4.3.5 电极的标准曲线和检出限第37页
        4.3.6 离子选择性实验第37页
        4.3.7 电极的重现性与稳定性第37-38页
        4.3.8 分析应用第38页
    4.4 本章小结第38-40页
第5章 氧化石墨烯/EDTA修饰碳糊电极测定铜离子第40-47页
    5.1 引言第40页
    5.2 实验部分第40-41页
        5.2.1 氧化石墨烯/EDTA修饰碳糊电极的制备第40-41页
        5.2.2 测定方法第41页
    5.3 结果与讨论第41-46页
        5.3.1 铜离子在修饰电极上的电化学行为第41-42页
        5.3.2 不同比例修饰剂对电极的影响第42-43页
        5.3.3 不同底液pH值对电极的影响第43-44页
        5.3.4 不同扫描速率对电极的影响第44页
        5.3.5 电极的曲线及检出限第44-45页
        5.3.6 离子选择性实验第45页
        5.3.7 电极的重现性与稳定性第45-46页
        5.3.8 分析应用第46页
    5.4 本章小结第46-47页
第6章 结论第47-48页
参考文献第48-55页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第55页
研究成果第55-57页
致谢第57页

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