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BiVO4及SnC2O4新型光催化材料的制备及其性能研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 前言第13-22页
    1.1 半导体光催化技术研究概况第13-15页
        1.1.1 半导体光催化技术第13页
        1.1.2 半导体光催化机理第13-14页
        1.1.3 半导体光催化剂活性影响因素第14-15页
    1.2 BiVO_4的基本性质及研究现状第15-17页
    1.3 SnC_2O_4的基本性质及研究现状第17页
    1.4 光催化材料常用的制备方法第17-19页
        1.4.1 化学沉淀法第17-18页
        1.4.2 水热法第18页
        1.4.3 溶剂热法第18-19页
        1.4.4 其他制备方法第19页
    1.5 研究课题的提出及目的意义第19-20页
    1.6 主要研究内容及创新点第20-22页
        1.6.1 主要研究内容第20-21页
        1.6.2 创新点第21-22页
第2章 简单液相沉淀法合成BiVO_4及其可见光光催化性能第22-31页
    2.1 前言第22页
    2.2 实验部分第22-23页
        2.2.1 样品制备第22-23页
        2.2.2 染料光催化降解试验第23页
        2.2.3 分析表征第23页
    2.3 结果与讨论第23-30页
        2.3.1 X射线衍射分析第23-24页
        2.3.2 微观形貌分析第24-25页
        2.3.3 光吸收性能第25-26页
        2.3.4 BiVO_4的光催化性能第26-28页
        2.3.5 BiVO_4降解染料酸性黑10B的反应动力学第28-29页
        2.3.6 光催化机理研究第29-30页
    2.4 结论第30-31页
第3章 新型磁分离BiVO_4/Fe_3O_4光催化剂的合成以及可见光下的高光催化活性第31-52页
    3.1 前言第31-32页
    3.2 实验部分第32-34页
        3.2.1 BiVO_4样品的合成第32页
        3.2.2 磁性BiVO_4/Fe_3O_4的合成第32-33页
        3.2.3 染料光催化降解试验第33页
        3.2.4 分析表征第33-34页
    3.3 结果与讨论第34-51页
        3.3.1 X射线衍射分析第34页
        3.3.2 微观形貌分析第34-37页
        3.3.3 BET分析第37页
        3.3.4 光吸收性能分析第37-39页
        3.3.5 XPS分析第39页
        3.3.6 荧光分析第39-41页
        3.3.7 光催化性能第41-45页
        3.3.8 光催化反应动力学分析第45页
        3.3.9 光催化反应机理研究第45-48页
        3.3.10 光催化剂的磁性能和回收性能第48-51页
    3.4 结论第51-52页
第4章 简单沉淀法一步合成类蝴蝶型SnC_2O_4及其光催化活性第52-65页
    4.1 前言第52-53页
    4.2 实验部分第53-54页
        4.2.1 SnC_2O_4样品的制备第53页
        4.2.2 分析表征第53页
        4.2.3 染料光催化降解试验第53-54页
    4.3 结果与讨论第54-64页
        4.3.1 结构与形貌分析第54-56页
        4.3.2 光吸收性能第56-57页
        4.3.3 SnC_2O_4的光催化性能第57-60页
        4.3.4 光催化反应机理研究第60-63页
        4.3.5 稳定性和可回收性第63-64页
    4.4 结论第64-65页
第5章 结论与展望第65-67页
    5.1 结论第65-66页
    5.2 展望第66-67页
参考文献第67-77页
致谢第77-78页
攻读学位期间取得的科研成果第78页

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