| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-22页 |
| ·超导材料简介 | 第9-10页 |
| ·高温超导带材的应用 | 第10-11页 |
| ·高温超导带材的发展 | 第11-14页 |
| ·第一代铋系高温超导带材 | 第11-12页 |
| ·第二代钇系高温超导带材 | 第12-14页 |
| ·钇系高温超导带材的制备 | 第14-18页 |
| ·金属基带的选择 | 第14-15页 |
| ·缓冲层的选择 | 第15-17页 |
| ·缓冲层薄膜的制备方法 | 第17页 |
| ·超导层的制备方法 | 第17-18页 |
| ·YBCO 带材研究现状 | 第18-20页 |
| ·YBCO 薄膜的磁通钉扎研究 | 第20-21页 |
| ·论文的选题依据和研究方案 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法和表征 | 第22-31页 |
| ·直流溅射技术 | 第22-23页 |
| ·实验装置 | 第23-25页 |
| ·制备种子层的设备 | 第23-24页 |
| ·制备超导层的设备 | 第24-25页 |
| ·薄膜的分析表征方法 | 第25-31页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26-28页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第28页 |
| ·YBCO 薄膜的电性能分析 | 第28-31页 |
| 第三章 氧化钇种子层的制备研究 | 第31-38页 |
| ·温度对Y_2O_3 薄膜的影响 | 第31-33页 |
| ·水分压对Y_2O_3 薄膜的影响 | 第33-37页 |
| ·反应溅射的特点 | 第33-34页 |
| ·水分压平衡点的选取 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 直流溅射法在YYC 缓冲层上制备YBCO 薄膜 | 第38-52页 |
| ·在反应溅射法和射频溅射法制备的YYC 上制备YBCO 薄膜 | 第38-44页 |
| ·反应溅射法制备的YYC 缓冲层 | 第39-40页 |
| ·射频溅射法制备的YYC 缓冲层 | 第40-42页 |
| ·缓冲层表面粗糙度对YBCO 薄膜性能的影响 | 第42-44页 |
| ·卷绕方式下制备YBCO 带材研究 | 第44-51页 |
| ·卷绕状态下沉积温度的优化 | 第45-47页 |
| ·卷绕状态下其它工艺条件的优化 | 第47-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 YBCO 薄膜的磁通钉扎研究 | 第52-59页 |
| ·YBCO 薄膜临界电流密度在不同温度下随磁场的变化 | 第53-55页 |
| ·Y 过量的YBCO 薄膜的磁通钉扎特性 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
