摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
1 绪论 | 第19-29页 |
1.1 研究意义 | 第19-20页 |
1.2 新型纳米含能薄膜材料研究进展 | 第20-27页 |
1.2.1 金属/氧化物纳米含能薄膜 | 第20-24页 |
1.2.2 金属/金属、金属/无机物纳米含能薄膜 | 第24-27页 |
1.3 本论文的研究内容 | 第27-29页 |
2 Ni、Ti和Al薄膜的制备方法及工艺条件 | 第29-45页 |
2.1 薄膜制备原理和方法 | 第29-34页 |
2.1.1 磁控溅射原理 | 第29-30页 |
2.1.2 薄膜沉积实验设备 | 第30-31页 |
2.1.3 磁控溅射镀膜工艺流程及工艺条件 | 第31-34页 |
2.2 Ni薄膜的制备与性能表征 | 第34-39页 |
2.2.1 Ni薄膜SEM表征 | 第34-37页 |
2.2.2 Ni薄膜EDS表征 | 第37-38页 |
2.2.3 Ni薄膜的沉积速率 | 第38-39页 |
2.3 Ti薄膜的制备与性能表征 | 第39-43页 |
2.3.1 Ti薄膜SEM表征 | 第39-42页 |
2.3.2 Ti薄膜EDS表征 | 第42-43页 |
2.3.3 Ti薄膜的沉积速率 | 第43页 |
2.4 Al薄膜的最佳工艺条件的选择 | 第43-44页 |
2.5 小结 | 第44-45页 |
3 Al/Ni和Al/Ti纳米含能薄膜的制备及其表征 | 第45-56页 |
3.1 Al/Ni、Al/Ti纳米含能薄膜的设计 | 第45-46页 |
3.2 纳米含能薄膜的制备 | 第46页 |
3.3 纳米含能薄膜的表征 | 第46-54页 |
3.3.1 Al/Ni纳米含能薄膜的表征 | 第46-50页 |
3.3.2 Al/Ti纳米含能薄膜的表征 | 第50-54页 |
3.4 小结 | 第54-56页 |
4 Al/Ni和Al/Ti纳米含能薄膜的热分析研究 | 第56-93页 |
4.1 Al/Ni纳米含能薄膜的热分析研究 | 第57-76页 |
4.1.1 Al/Ni纳米含能薄膜的DSC曲线分析 | 第57-59页 |
4.1.2 反应后的Al/Ni纳米含能薄膜的XRD表征 | 第59-60页 |
4.1.3 Kissinger法计算Al/Ni纳米含能薄膜的活化能 | 第60-68页 |
4.1.4 Ozawa法计算Al/Ni纳米含能薄膜的活化能 | 第68-76页 |
4.1.5 Kissinger法和Ozawa法计算得到的Al/Ni纳米含能薄膜的活化能的对比分析 | 第76页 |
4.2 Al/Ti纳米含能薄膜的热分析研究 | 第76-91页 |
4.2.1 Al/Ti纳米含能薄膜的DSC曲线分析 | 第76-78页 |
4.2.2 反应后的Al/Ti纳米含能薄膜的XRD表征 | 第78-79页 |
4.2.3 Kissinger法计算Al/Ti纳米含能薄膜的活化能 | 第79-85页 |
4.2.4 Ozawa法计算Al/Ti纳米含能薄膜的活化能 | 第85-90页 |
4.2.5 Kissinger法和Ozawa法计算得到的Al/Ni纳米含能薄膜的活化能的对比分析 | 第90-91页 |
4.3 小结 | 第91-93页 |
5 Al/Ni和Al/Ti纳米含能桥膜的电爆性能研究 | 第93-116页 |
5.1 纳米含能桥膜的制备 | 第93-94页 |
5.2 电爆炸性能测试原理与方法 | 第94页 |
5.3 纳米含能桥膜的电爆曲线研究 | 第94-105页 |
5.3.1 Al/Ni纳米含能桥膜的电爆曲线研究 | 第96-101页 |
5.3.2 Al/Ti纳米含能桥膜的电爆曲线研究 | 第101-105页 |
5.4 纳米含能桥膜的电爆过程分析 | 第105-109页 |
5.4.1 Al/Ni纳米含能桥膜的电爆现象分析 | 第106-107页 |
5.4.2 Al/Ti纳米含能桥膜的电爆现象分析 | 第107-109页 |
5.5 纳米含能桥膜的电爆温度研究 | 第109-113页 |
5.5.1 测试原理及测试装置 | 第109-112页 |
5.5.2 Al/Ni纳米含能桥膜电爆温度的研究 | 第112-113页 |
5.5.3 Al/Ti纳米含能桥膜电爆温度的研究 | 第113页 |
5.6 小结 | 第113-116页 |
6 总结与展望 | 第116-120页 |
6.1 论文的主要内容与结论 | 第116-118页 |
6.2 论文的主要创新点 | 第118-119页 |
6.3 论文的不足及后续工作 | 第119-120页 |
致谢 | 第120-121页 |
参考文献 | 第121-129页 |
附录 | 第129页 |