| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-13页 |
| 1.2.1 人工微结构材料的国内外研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 散射及偏振特性的国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 光散射的基本理论 | 第14-26页 |
| 2.1 材质表面的统计描述 | 第14页 |
| 2.2 光散射的基本物理过程 | 第14-17页 |
| 2.3 散射问题的基本处理方法 | 第17-20页 |
| 2.3.1Kirchhoff近似 | 第17页 |
| 2.3.2 几何光学法 | 第17页 |
| 2.3.3 微扰法 | 第17-18页 |
| 2.3.4 双尺度法 | 第18页 |
| 2.3.5BRDF | 第18-20页 |
| 2.4 散射光的偏振特性 | 第20-25页 |
| 2.4.1 偏振的基本概念 | 第21页 |
| 2.4.2 偏振的表述 | 第21-24页 |
| 2.4.3 退偏现象 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 散射场的测量原理及实验系统的搭建 | 第26-35页 |
| 3.1 散射场的测量原理 | 第26-27页 |
| 3.2 实验设计 | 第27-31页 |
| 3.2.1 实验材料的选择 | 第27-30页 |
| 3.2.2 实验器件的选择 | 第30-31页 |
| 3.3 实验系统的搭建 | 第31-32页 |
| 3.4 实验中角度的转换 | 第32-33页 |
| 3.5 实验误差的控制 | 第33-34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 不同微结构表面散射场的分析 | 第35-40页 |
| 4.1 入射角度对散射场分布的影响 | 第35-38页 |
| 4.1.1 黑硅散射场的结果对比分析 | 第35-36页 |
| 4.1.2 黑金属铝散射场的结果对比分析 | 第36-38页 |
| 4.2 反射能力不同时对散射场分布的影响 | 第38页 |
| 4.3 周期性不同时对散射场分布的影响 | 第38-39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 不同微结构表面偏振特性的分析 | 第40-48页 |
| 5.1 不同姿态对偏振能力的影响 | 第40-42页 |
| 5.1.1 黑硅置于不同姿态时偏振能力的结果分析 | 第40-41页 |
| 5.1.2 黑金属铝置于不同姿态时偏振能力的结果分析 | 第41-42页 |
| 5.2 不同入射角对偏振能力的影响 | 第42-44页 |
| 5.3 微结构表面不同时的偏振能力对比分析 | 第44-45页 |
| 5.4 入射角度差异较大时偏振度的结果对比分析 | 第45-47页 |
| 5.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 6.1 总结 | 第48-49页 |
| 6.2 展望 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及科研成果 | 第53页 |