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反射高能电子衍射机理及氧化物界面的精确控制

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第12-44页
    1.1 钙钛矿型氧化物第12-15页
        1.1.1 钙铁矿型氧化物的结构第12-14页
        1.1.2 几种典型的钙钛矿型氧化物第14-15页
    1.2 反射式高能电子衍射(RHEED)第15-19页
        1.2.1 RHEED振荡曲线的发展第15-17页
        1.2.2 RHEED振荡曲线的来源第17-19页
    1.3 LaAlO_3/SrTiO_3 (LAO/STO)界面第19-32页
        1.3.1 LAO/STO界面二维电子气的发现第19-21页
        1.3.2 LAO/STO界面的新奇物理性质第21-24页
        1.3.3 LAO/STO界面输运性质的物理机制第24-29页
        1.3.4 LAO/h-STO/STO异质结的研究与进展第29-32页
    1.4 Mott绝缘体LaTiO_3金属绝缘体相变第32-35页
    1.5 本论文的研究意义及研究内容第35-37页
    参考文献第37-44页
第二章 氧化物薄膜制备工艺和表征手段第44-61页
    2.1 氧化物分子束外延生长技术(Oxide-MBE)第44-50页
        2.1.1 MBE基本原理及设备组成第44-48页
        2.1.2 分子束流的产生第48-50页
        2.1.3 Oxide-MBE的特点第50页
    2.2 反射式高能电子衍射(RHEED)第50-52页
    2.3 高分辨X射线衍射(HRXRD)第52-54页
    2.4 透射电子显微镜(TEM)第54-55页
    2.5 原子力显微镜(AFM)第55-57页
    2.6 样品输运性质测试第57-60页
        2.6.1 四探针法第57-58页
        2.6.2 综合物性测试系统(PPMS)第58-60页
    参考文献第60-61页
第三章 RHEED振荡曲线相位移和双峰现象的产生机理及应用第61-83页
    3.1 RHEED振荡曲线的来源及SrTiO_3薄膜生长振荡曲线第61-67页
        3.1.1 RHEED振荡曲线的来源及基本振荡行为第61-64页
        3.1.2 同质外延SrTiO_3薄膜的RHEED振荡曲线第64-66页
        3.1.3 RHEED振荡曲线的相位移和双峰现象第66-67页
    3.2 RHEED强度振荡曲线相位移及双峰现象的数据采集第67-70页
        3.2.1 实验参数及数据采集第67-68页
        3.2.2 RHEED电子束入射角的调节以及实际入射角的计算第68-70页
    3.3 RHEED衍射强度模拟及平均内势能拟合第70-73页
        3.3.1 RHEED衍射强度的模拟第70-72页
        3.3.2 SrTiO_3生长过程中平均内势能的拟合第72-73页
    3.4 RHEED振荡的反相和双峰现象的物理机制第73-76页
    3.5 LAO/h-STO/STO异质结界面二维电子气第76-80页
        3.5.1 LAO/STO异质结的生长及界面二维电子气第76-79页
        3.5.2 LAO/h-STO/STO异质结的生长及界面二维电子气第79-80页
    3.6 本章小结第80-81页
    参考文献第81-83页
第四章 Mott绝缘体LaTiO_3金属绝缘体相变第83-90页
    4.1 LaTiO_3外延薄膜的生长及输运性质第84-88页
        4.1.1 LaTiO_3薄膜的生长与表征第84-85页
        4.1.2 LaTiO_x薄膜输运性质的研究第85-88页
    4.2 本章小结第88-89页
    参考文献第89-90页
第五章 总结与展望第90-92页
硕士期间学术成果第92-93页
致谢第93-94页

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