| 摘 要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪 论 | 第10-28页 |
| 1.1 常见的薄膜材料制备方法 | 第10-14页 |
| 1.2 铁电薄膜材料的结构、性能与应用 | 第14-16页 |
| 1.3 钽铌酸钾(KTN)材料的结构与性能 | 第16-20页 |
| 1.4 KTN薄膜制备的理论和实验研究现状及发展趋势 | 第20-24页 |
| 1.5 本课题研究的主要目的和内容 | 第24-28页 |
| 2 脉冲激光沉积技术(PLD技术) | 第28-43页 |
| 2.1 PLD发展过程 | 第28-31页 |
| 2.2 PLD技术制备薄膜的实验工艺和独特优点 | 第31-35页 |
| 2.3 PLD制备过程的一般描述 | 第35-43页 |
| 3 PLD制备KTN薄膜的实验及工艺条件优化研究 | 第43-49页 |
| 3.1 KTN陶瓷靶材的制备 | 第43-45页 |
| 3.2 KTN薄膜的沉积 | 第45-47页 |
| 3.3 KTN薄膜的制备工艺条件 | 第47-48页 |
| 3.4 小结 | 第48-49页 |
| 4 脉冲激光烧蚀块靶动态界面研究 | 第49-63页 |
| 4.1 激光烧蚀产生的烧蚀面的位置演化规律 | 第49-53页 |
| 4.2 烧蚀方程的导热方程和定解条件 | 第53-56页 |
| 4.3 液相区和固相区的温度演化规律 | 第56-62页 |
| 4.4 小结 | 第62-63页 |
| 5 等离子体的演化规律研究 | 第63-74页 |
| 5.1 脉冲激光烧蚀产生的等离子体发射 | 第63-65页 |
| 5.2 等离子体的空间膨胀 | 第65-69页 |
| 5.3 激光工作参数与沉积薄膜特性关系 | 第69-73页 |
| 5.4 小结 | 第73-74页 |
| 6 脉冲激光烧蚀产生的冲击波研究 | 第74-89页 |
| 6.1 有限爆炸时间的冲击波模型的建立 | 第74-81页 |
| 6.2 冲击波的渐近行为的研究 | 第81-87页 |
| 6.3 小结 | 第87-89页 |
| 7 结 论 | 第89-92页 |
| 致 谢 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-105页 |