| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-27页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 石墨烯的结构与性能 | 第9-11页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第11-14页 |
| 1.3.1 化学气相沉积法（CVD） | 第11-14页 |
| 1.3.2 其他主要制备方法 | 第14页 |
| 1.4 国内外介电衬底上制备石墨烯的研究现状与分析 | 第14-24页 |
| 1.4.1 退火合成法 | 第15-17页 |
| 1.4.2 CVD法合成 | 第17-24页 |
| 1.5 石墨烯的应用 | 第24-25页 |
| 1.6 本文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 实验设备、药品与实验方法 | 第27-32页 |
| 2.1 实验设备与试剂 | 第27-28页 |
| 2.1.1 实验设备 | 第27-28页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第28页 |
| 2.2 实验方法 | 第28-32页 |
| 2.2.1 光学显微镜分析 | 第28-29页 |
| 2.2.2 拉曼光谱分析 | 第29页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱分析 | 第29-30页 |
| 2.2.4 原子力显微镜分析 | 第30页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜分析 | 第30-31页 |
| 2.2.6 电学性能测试分析 | 第31-32页 |
| 第3章 常压CVD法乙醇制备石墨烯及其性能的研究 | 第32-40页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 石墨烯薄膜的制备 | 第32-34页 |
| 3.3 石墨烯的表征 | 第34-37页 |
| 3.3.1 石墨烯的光学及拉曼表征 | 第34-35页 |
| 3.3.2 石墨烯的XPS表征 | 第35-36页 |
| 3.3.3 石墨烯的结构表征 | 第36-37页 |
| 3.4 石墨烯薄膜的电学性能表征 | 第37-38页 |
| 3.4.1 石墨烯场效应晶体管（FET）的构筑 | 第37页 |
| 3.4.2 石墨烯场效应晶体管的电学性能表征 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 气态铜催化乙醇制备石墨烯的生长机理研究 | 第40-48页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 不同生长阶段石墨烯的结构表征 | 第40-43页 |
| 4.3 不同生长阶段石墨烯的化学组成表征 | 第43-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 低压CVD法甲醇制备石墨烯及其性能的研究 | 第48-65页 |
| 5.1 引言 | 第48页 |
| 5.2 低压铜催化甲醇制备石墨烯薄膜 | 第48-50页 |
| 5.3 生长条件对石墨烯薄膜的形貌和质量的影响 | 第50-59页 |
| 5.3.1 生长温度的影响 | 第50-52页 |
| 5.3.2 氢气浓度的影响 | 第52-55页 |
| 5.3.3 生长时间的影响 | 第55-59页 |
| 5.4 石墨烯薄膜的性能表征 | 第59-62页 |
| 5.4.1 石墨烯的光学和拉曼表征 | 第59-60页 |
| 5.4.2 石墨烯的XPS表征 | 第60-61页 |
| 5.4.3 石墨烯的结构表征 | 第61-62页 |
| 5.5 石墨烯场效应晶体管的构筑及其电学性能的表征 | 第62-63页 |
| 5.6 本章小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及申请专利 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |