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离子在绝缘微孔中的导向实验和理论模拟研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
前言第15-17页
第一章 研究背景介绍第17-39页
    1.1 HCIs与金属微孔的作用第17-18页
    1.2 HCIs在绝缘微孔中的导向效应第18-33页
        1.2.1 绝缘微孔导向的发现第18-20页
        1.2.2 自组织充电机制的实验验证和完善第20-22页
        1.2.3 自组织充电机制的理论模拟验证第22-25页
        1.2.4 导向效应的现象规律第25-31页
        1.2.5 其他有趣的效应第31-33页
    1.3 锥形玻璃管对离子束的聚焦效应第33-35页
    1.4 负离子和电子的导向第35-36页
    1.5 本章注记第36-39页
第二章 实验研究:氢分子离子穿过多孔锥形孔的透射第39-51页
    2.1 实验平台简介第39-44页
        2.1.1 电子回旋共振离子源第39-41页
        2.1.2 电荷态的选择第41页
        2.1.3 束流的准直与聚焦第41-43页
        2.1.4 真空靶室第43-44页
    2.2 实验方法简介第44-45页
    2.3 实验结果讨论与分析第45-50页
        2.3.1 200 keV H_2~+离子的透射与聚焦第45-48页
        2.3.2 7-200 keV H_2~+离子的双肩峰角分布第48-49页
        2.3.3 峰谷差与能量的关系第49-50页
    2.4 本章注记第50-51页
第三章 离子在绝缘微孔中导向效应的理论分析第51-65页
    3.1 线性沉积模型第51-52页
    3.2 非线性沉积模型第52-62页
        3.2.1 (准)指数放电第52-53页
        3.2.2 双曲放电第53-54页
        3.2.3 渐近行为的理论分析第54-56页
        3.2.4 数值计算讨论第56-58页
        3.2.5 离子出射率的解析讨论第58-61页
        3.2.6 阻塞出射的拟合第61-62页
    3.3 附:根据实验结果估算微孔内部的电场第62-63页
        3.3.1 电场大小估算第62页
        3.3.2 电势的估算第62-63页
    3.4 本章注记第63-65页
第四章 低能离子在绝缘微孔中导向的模拟第65-81页
    4.1 模拟方法介绍第65-69页
        4.1.1 基本考虑第65-66页
        4.1.2 沉积电荷的输运过程第66-67页
        4.1.3 电荷漂移Vs双曲衰减第67-69页
    4.2 模拟结果第69-79页
        4.2.1 不考虑电荷输运过程—库仑阻塞第69-72页
        4.2.2 迁移率的选择第72-74页
        4.2.3 考虑电荷输运过程—导向出射第74-76页
        4.2.4 导向效应的质量无关性第76-77页
        4.2.5 微孔内的平衡电场—导向机制探索第77-79页
    4.3 本章注记第79-81页
第五章 结论与展望第81-85页
    5.1 结论第81-83页
        5.1.1 实验研究第81页
        5.1.2 理论分析第81-82页
        5.1.3 模拟研究第82-83页
    5.2 展望第83-85页
附录A MeV离子导向探索第85-91页
    A.1 序第85-86页
    A.2 初步的模拟结果第86-91页
        A.2.1 Rajta实验条件第86页
        A.2.2 初步模拟结果第86-91页
参考文献第91-103页
发表文章目录第103-105页
简历第105-107页
致谢第107页

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