摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
前言 | 第15-17页 |
第一章 研究背景介绍 | 第17-39页 |
1.1 HCIs与金属微孔的作用 | 第17-18页 |
1.2 HCIs在绝缘微孔中的导向效应 | 第18-33页 |
1.2.1 绝缘微孔导向的发现 | 第18-20页 |
1.2.2 自组织充电机制的实验验证和完善 | 第20-22页 |
1.2.3 自组织充电机制的理论模拟验证 | 第22-25页 |
1.2.4 导向效应的现象规律 | 第25-31页 |
1.2.5 其他有趣的效应 | 第31-33页 |
1.3 锥形玻璃管对离子束的聚焦效应 | 第33-35页 |
1.4 负离子和电子的导向 | 第35-36页 |
1.5 本章注记 | 第36-39页 |
第二章 实验研究:氢分子离子穿过多孔锥形孔的透射 | 第39-51页 |
2.1 实验平台简介 | 第39-44页 |
2.1.1 电子回旋共振离子源 | 第39-41页 |
2.1.2 电荷态的选择 | 第41页 |
2.1.3 束流的准直与聚焦 | 第41-43页 |
2.1.4 真空靶室 | 第43-44页 |
2.2 实验方法简介 | 第44-45页 |
2.3 实验结果讨论与分析 | 第45-50页 |
2.3.1 200 keV H_2~+离子的透射与聚焦 | 第45-48页 |
2.3.2 7-200 keV H_2~+离子的双肩峰角分布 | 第48-49页 |
2.3.3 峰谷差与能量的关系 | 第49-50页 |
2.4 本章注记 | 第50-51页 |
第三章 离子在绝缘微孔中导向效应的理论分析 | 第51-65页 |
3.1 线性沉积模型 | 第51-52页 |
3.2 非线性沉积模型 | 第52-62页 |
3.2.1 (准)指数放电 | 第52-53页 |
3.2.2 双曲放电 | 第53-54页 |
3.2.3 渐近行为的理论分析 | 第54-56页 |
3.2.4 数值计算讨论 | 第56-58页 |
3.2.5 离子出射率的解析讨论 | 第58-61页 |
3.2.6 阻塞出射的拟合 | 第61-62页 |
3.3 附:根据实验结果估算微孔内部的电场 | 第62-63页 |
3.3.1 电场大小估算 | 第62页 |
3.3.2 电势的估算 | 第62-63页 |
3.4 本章注记 | 第63-65页 |
第四章 低能离子在绝缘微孔中导向的模拟 | 第65-81页 |
4.1 模拟方法介绍 | 第65-69页 |
4.1.1 基本考虑 | 第65-66页 |
4.1.2 沉积电荷的输运过程 | 第66-67页 |
4.1.3 电荷漂移Vs双曲衰减 | 第67-69页 |
4.2 模拟结果 | 第69-79页 |
4.2.1 不考虑电荷输运过程—库仑阻塞 | 第69-72页 |
4.2.2 迁移率的选择 | 第72-74页 |
4.2.3 考虑电荷输运过程—导向出射 | 第74-76页 |
4.2.4 导向效应的质量无关性 | 第76-77页 |
4.2.5 微孔内的平衡电场—导向机制探索 | 第77-79页 |
4.3 本章注记 | 第79-81页 |
第五章 结论与展望 | 第81-85页 |
5.1 结论 | 第81-83页 |
5.1.1 实验研究 | 第81页 |
5.1.2 理论分析 | 第81-82页 |
5.1.3 模拟研究 | 第82-83页 |
5.2 展望 | 第83-85页 |
附录A MeV离子导向探索 | 第85-91页 |
A.1 序 | 第85-86页 |
A.2 初步的模拟结果 | 第86-91页 |
A.2.1 Rajta实验条件 | 第86页 |
A.2.2 初步模拟结果 | 第86-91页 |
参考文献 | 第91-103页 |
发表文章目录 | 第103-105页 |
简历 | 第105-107页 |
致谢 | 第107页 |