| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 二次电子概论 | 第11-14页 |
| 1.1.1 二次电子传输机制 | 第11-12页 |
| 1.1.2 二次电子的产率 | 第12-13页 |
| 1.1.3 二次电子发射目前研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2 贵金属纳米材料的（研究现状）概论 | 第14-18页 |
| 1.2.1 贵金属纳米材料的定义与分类 | 第14页 |
| 1.2.2 贵金属纳米材料的制备与其等离子共振效应 | 第14-16页 |
| 1.2.3 贵金属纳米材料二次电子发射研究 | 第16-17页 |
| 1.2.4 贵金属纳米材料的发展趋势 | 第17-18页 |
| 1.3 不同尺寸金纳米颗粒制备方法概论 | 第18-19页 |
| 1.4 金纳米颗粒超晶格 | 第19-20页 |
| 1.5 本课题的研究内容及意义 | 第20-23页 |
| 第二章 实验方法和仪器介绍 | 第23-31页 |
| 2.1 试剂与原料 | 第23页 |
| 2.2 仪器介绍 | 第23-31页 |
| 2.2.1 透射电子显微镜（TEM） | 第24-25页 |
| 2.2.2 场发射扫描电子显微镜（SEM） | 第25-27页 |
| 2.2.3 同步辐射掠入射X射线衍射 | 第27-28页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱仪 | 第28-29页 |
| 2.2.5 紫外光电子能谱仪 | 第29页 |
| 2.2.6 傅里叶红外光谱仪 | 第29-31页 |
| 第三章 纳米金颗粒的合成与薄膜制备 | 第31-43页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 实验原理 | 第32页 |
| 3.3 实验步骤 | 第32-33页 |
| 3.4 表征方法 | 第33-41页 |
| 3.4.1 透射电子显微镜（TEM）分析 | 第33-36页 |
| 3.4.2 扫描电子显微镜分析 | 第36-38页 |
| 3.4.3 场发射扫描电子显微镜（FESEM）与同步辐射掠入射X射线衍射（GIXRD） | 第38-40页 |
| 3.4.4 红外光谱（FTIR）分析 | 第40页 |
| 3.4.5 X-射线光电子能谱（XPS）分析 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 金纳米颗粒薄膜的微观结构 | 第43-47页 |
| 4.1 退火气氛对纳米金颗粒薄膜自组装的影响 | 第43-44页 |
| 4.2 温度对纳米颗粒薄膜表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| 4.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 金纳米颗粒薄膜的二次电子发射 | 第47-53页 |
| 5.1 引言 | 第47-48页 |
| 5.2 温度对纳米金颗粒薄膜的二次电子发射的影响 | 第48-50页 |
| 5.3 尺寸对纳米金颗粒薄膜的二次电子发射的影响 | 第50-52页 |
| 5.4 结果与讨论 | 第52-53页 |
| 第六章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |