摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第1章 绪论 | 第15-33页 |
1.1 研究背景及意义 | 第15页 |
1.2 NO_x控制技术 | 第15-23页 |
1.2.1 还原法 | 第15-18页 |
1.2.2 络合吸收法 | 第18-19页 |
1.2.3 氧化吸收法 | 第19-23页 |
1.3 二氧化氯的产生 | 第23页 |
1.4 二氧化氯性质 | 第23页 |
1.5 二氧化氯发生技术 | 第23-30页 |
1.5.1 化学法 | 第23-28页 |
1.5.2 电解法 | 第28-30页 |
1.6 课题的研究内容 | 第30-33页 |
第2章 实验材料与研究方法 | 第33-41页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第33-34页 |
2.1.1 实验试剂 | 第33-34页 |
2.1.2 实验仪器 | 第34页 |
2.2 实验装置及方法 | 第34-41页 |
2.2.1 四种电极的制备 | 第34-35页 |
2.2.2 电极表征及电化学功能测试 | 第35页 |
2.2.3 电催化制备二氧化氯实验 | 第35-38页 |
2.2.4 二氧化氯气相氧化NO和SO_2实验 | 第38-41页 |
第3章 电极的表征及性能测定 | 第41-47页 |
3.1 四种电极表面形态分析 | 第41-42页 |
3.2 四种电极的XPS分析 | 第42-43页 |
3.3 循环伏安分析 | 第43-44页 |
3.4 二氧化氯生成的催化反应和电解反应过程 | 第44-45页 |
3.5 本章小结 | 第45-47页 |
第4章 催化电解制备二氧化氯 | 第47-63页 |
4.1 四种电极的催化性能差异 | 第47-48页 |
4.2 正交实验因素分析 | 第48-49页 |
4.3 无隔膜电解产生ClO_2影响因素研究 | 第49-55页 |
4.3.1 硫酸浓度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第50-51页 |
4.3.2 氯酸钠浓度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第51-52页 |
4.3.3 温度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第52-53页 |
4.3.4 电流密度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第53-55页 |
4.4 有隔膜电解产生ClO_2影响因素研究 | 第55-60页 |
4.4.1 硫酸浓度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第55-57页 |
4.4.2 氯酸钠浓度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第57-58页 |
4.4.3 温度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第58-59页 |
4.4.4 电流密度对ClO_2产率和纯度的影响 | 第59-60页 |
4.5 本章小结 | 第60-63页 |
第5章 ClO_2气相氧化NO研究 | 第63-77页 |
5.1 ClO_2气相氧化NO的研究 | 第63-67页 |
5.1.1 气相中含水量对NO氧化率的影响 | 第63-64页 |
5.1.2 ClO_2/NO摩尔比对NO氧化率的影响 | 第64-65页 |
5.1.3 温度对NO氧化率的影响 | 第65页 |
5.1.4 含氧量对NO氧化率的影响 | 第65-66页 |
5.1.5 停留时间对NO氧化率的影响 | 第66-67页 |
5.2 ClO_2氧化SO_2的性能探究 | 第67-71页 |
5.2.1 ClO_2/SO_2摩尔比对SO_2氧化率的影响 | 第67-68页 |
5.2.2 气相的含水量对SO_2氧化率的影响 | 第68-69页 |
5.2.3 温度对SO_2氧化率的影响 | 第69-70页 |
5.2.4 含氧量对SO_2氧化率的影响 | 第70页 |
5.2.5 停留时间对SO_2氧化率的影响 | 第70-71页 |
5.3 二氧化氯气相同时氧化NO和SO_2的研究 | 第71-75页 |
5.3.1 ClO_2/NO和ClO_2/SO_2对NO和SO_2氧化率的影响 | 第71-72页 |
5.3.2 温度对NO和SO_2氧化率的影响 | 第72-73页 |
5.3.3 气相含氧量对NO和SO_2氧化率的影响 | 第73-74页 |
5.3.4 停留时间对NO和SO_2氧化率的影响 | 第74-75页 |
5.4 ClO_2气相氧化NO和SO_2氧化历程 | 第75页 |
5.5 本章小结 | 第75-77页 |
第6章 结论 | 第77-79页 |
参考文献 | 第79-85页 |
致谢 | 第85-87页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第87-89页 |
作者与导师简介 | 第89-91页 |
北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第91-92页 |