摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 研究背景 | 第11-13页 |
1.2 选择性催化还原法(SCR)简介 | 第13-16页 |
1.2.1 选择性催化还原(SCR)简介 | 第13-14页 |
1.2.2 SCR反应机理的研究进展 | 第14-16页 |
1.3 NH_3-SCR催化剂研究现状 | 第16-20页 |
1.3.1 SCR催化剂的制备方法 | 第16-17页 |
1.3.2 SCR催化剂的组成 | 第17-20页 |
1.4 催化剂表面元素价态研究 | 第20-21页 |
1.5 本文研究的目的、内容及意义 | 第21-23页 |
第二章 实验部分 | 第23-29页 |
2.1 化学试剂与实验仪器 | 第23-24页 |
2.1.1 化学试剂 | 第23页 |
2.1.2 实验仪器 | 第23-24页 |
2.2 催化剂制备 | 第24-25页 |
2.3 催化剂表征及性能测试 | 第25-28页 |
2.3.1 催化剂的性质 | 第25-28页 |
2.3.2 催化剂活性测试 | 第28页 |
2.4 本章小结 | 第28-29页 |
第三章 V_2O_5聚集状态对钒价态及理化性质的影响 | 第29-57页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 V_2O_5聚集状态对催化剂脱硝活性及理化性质的影响 | 第29-39页 |
3.2.1 NH_3-SCR脱硝性能 | 第29-30页 |
3.2.2 X射线晶体衍射与比表面积 | 第30-32页 |
3.2.3 Raman | 第32-34页 |
3.2.4 X射线光电子能谱 | 第34-35页 |
3.2.5 NH_3程序升温脱附 | 第35-37页 |
3.2.6 吡啶吸附原位红外 | 第37-38页 |
3.2.7 H_2程序升温还原 | 第38-39页 |
3.3 助剂WO_3对催化剂脱硝活性及理化性质的影响 | 第39-48页 |
3.3.1 NH_3-SCR脱硝性能 | 第39-40页 |
3.3.2 X射线晶体衍射与比表面积 | 第40-41页 |
3.3.3 Raman | 第41-43页 |
3.3.4 X射线光电子能谱 | 第43-45页 |
3.3.5 NH_3程序升温脱附 | 第45-46页 |
3.3.6 吡啶吸附原位红外 | 第46-47页 |
3.3.7 H_2程序升温还原 | 第47-48页 |
3.4 助剂CeO_2催化剂脱硝活性及理化性质的影响 | 第48-55页 |
3.4.1 NH_3-SCR脱硝性能 | 第48-49页 |
3.4.2 X射线晶体衍射与比表面积 | 第49-50页 |
3.4.3 Raman | 第50-51页 |
3.4.4 X射线光电子能谱 | 第51-53页 |
3.4.5 NH_3-TPD | 第53-54页 |
3.4.6 吡啶吸附原位红外 | 第54-55页 |
3.4.7 H_2程序升温还原 | 第55页 |
3.5 本章小结 | 第55-57页 |
第四章 脱硝反应对V~(4+)/V~(5+)比值和表面酸性的影响 | 第57-67页 |
4.1 引言 | 第57页 |
4.2 V_2O_5/TiO_2催化剂脱硝活性评价 | 第57-58页 |
4.3 V_2O_5/TiO_2催化剂的表征 | 第58-64页 |
4.3.2 X射线晶体衍射与比表面积 | 第58-59页 |
4.3.3 X射线光电子能谱 | 第59-61页 |
4.3.4 NH_3程序升温脱附 | 第61-63页 |
4.3.5 吡啶吸附原位红外 | 第63-64页 |
4.4 本章小结 | 第64-67页 |
结论 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-77页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第77-79页 |
致谢 | 第79页 |