| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-33页 |
| 1.1 前言 | 第9页 |
| 1.2 分子筛膜概述 | 第9-11页 |
| 1.2.1 分子筛膜简介 | 第9-10页 |
| 1.2.2 分子筛膜的应用 | 第10-11页 |
| 1.3 分子筛膜缺陷的分类 | 第11-15页 |
| 1.3.1 针孔 | 第12-13页 |
| 1.3.2 裂纹 | 第13-14页 |
| 1.3.3 晶间孔和晶界 | 第14-15页 |
| 1.4 分子筛膜修复技术的分类 | 第15-29页 |
| 1.4.1 多次合成法 | 第16页 |
| 1.4.2 积碳结焦法 | 第16-17页 |
| 1.4.3 表面涂层法 | 第17-21页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法（CVD） | 第21-27页 |
| 1.4.5 化学液相沉积法（CLD） | 第27-29页 |
| 1.5 分子筛膜缺陷的表征 | 第29-31页 |
| 1.5.1 定性的表征方法 | 第30页 |
| 1.5.2 定量的表征方法 | 第30-31页 |
| 1.6 MTMS水解缩聚性质的应用 | 第31-32页 |
| 1.7 本课题的研究内容及意义 | 第32-33页 |
| 第二章 实验原理及表征方法 | 第33-42页 |
| 2.1 实验原理 | 第33页 |
| 2.2 实验影响因素 | 第33-34页 |
| 2.2.1 有机硅烷的选择 | 第33-34页 |
| 2.2.2 界面水解缩合条件 | 第34页 |
| 2.2.3 分子筛膜两侧的压差 | 第34页 |
| 2.3 表征方法 | 第34-42页 |
| 2.3.1 扫描电镜分析（SEM） | 第34-35页 |
| 2.3.2 红外光谱分析（FT-IR） | 第35页 |
| 2.3.3 接触角分析 | 第35-36页 |
| 2.3.4 单组份气体渗透装置 | 第36页 |
| 2.3.5 分子筛膜的孔径分布的测定 | 第36-40页 |
| 2.3.6 渗透汽化性能的测定 | 第40-42页 |
| 第三章 化学液相沉积法修复条件的探索 | 第42-60页 |
| 3.1 实验部分 | 第42-45页 |
| 3.1.1 实验试剂与仪器 | 第42-43页 |
| 3.1.2 MTMS界面水解缩聚反应条件探索 | 第43-44页 |
| 3.1.3 MTMS界面水解缩聚最佳反应条件的验证 | 第44页 |
| 3.1.4 α-Al_2O_3载体的制备 | 第44-45页 |
| 3.1.5 α-Al_2O_3载体的修复 | 第45页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第45-58页 |
| 3.2.1 水相pH值的影响 | 第47-49页 |
| 3.2.2 缓冲溶液的影响 | 第49-50页 |
| 3.2.3 单体浓度的影响 | 第50-53页 |
| 3.2.4 界面水解聚合最佳反应条件的初步选择 | 第53页 |
| 3.2.5 界面水解聚合最佳反应条件的验证结果 | 第53-54页 |
| 3.2.6 α-Al_2O_3载体化学液相沉积法修复结果 | 第54-58页 |
| 3.3 本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 化学液相沉积法修复Silicalite-1 分子筛膜 | 第60-70页 |
| 4.1 实验部分 | 第60-62页 |
| 4.1.1 实验试剂与仪器 | 第60-61页 |
| 4.1.2 实验设计思路 | 第61页 |
| 4.1.3 实验装置与步骤 | 第61-62页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第62-68页 |
| 4.2.1 修复前后膜表面性质的变化 | 第62-64页 |
| 4.2.2 修复前后缺陷孔径分布的变化 | 第64-67页 |
| 4.2.3 单组份渗透汽化性能 | 第67页 |
| 4.2.4 双组份渗透汽化性能 | 第67-68页 |
| 4.3 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
