| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| ·金刚石的结构与性质 | 第9-13页 |
| ·金刚石的结构 | 第9-11页 |
| ·金刚石的性质与应用 | 第11-13页 |
| ·N型纳米金刚石薄膜简介 | 第13-16页 |
| ·N型纳米金刚石薄膜的生长机理 | 第14-15页 |
| ·N型纳米金刚石膜的制备方法 | 第15-16页 |
| ·金刚石薄膜微结构化的研究现状 | 第16-20页 |
| ·金刚石薄膜微结构化简介 | 第17-18页 |
| ·影响金刚石薄膜微结构化的因素 | 第18-20页 |
| ·金刚石薄膜微结构化的发射特性 | 第20-25页 |
| ·阴极材料发射机制 | 第20-21页 |
| ·发射阴极的种类 | 第21-23页 |
| ·金刚石薄膜微结构化的场发射研究现状 | 第23-24页 |
| ·影响金刚石薄膜微结构化的场致发射因素 | 第24-25页 |
| ·课题来源及主要研究内容 | 第25-27页 |
| 2 N型纳米金刚石微结构的制备及测试手段 | 第27-39页 |
| ·MPCVD金刚石薄膜沉积装置 | 第27-30页 |
| ·微波源 | 第28-29页 |
| ·反应腔体 | 第29页 |
| ·真空系统 | 第29页 |
| ·水电保护系统 | 第29页 |
| ·气路系统 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射沉积装置 | 第30页 |
| ·N型纳米金刚石微结构的制备 | 第30-35页 |
| ·N型纳米金刚石薄膜的制备 | 第30-32页 |
| ·Ni纳米金属球的形成 | 第32-34页 |
| ·Ar/O_2等离子体刻蚀 | 第34-35页 |
| ·N型纳米金刚石微结构的表征 | 第35-39页 |
| ·激光拉曼光谱（ Raman） | 第35页 |
| ·扫描电子显微镜（ SEM） | 第35-36页 |
| ·原子力显微镜（ AFM） | 第36页 |
| ·霍尔效应测试仪 | 第36页 |
| ·S波段微波场发射特性测试平台 | 第36-39页 |
| 3 N型纳米金刚石微结构的表征及发射特性分析 | 第39-62页 |
| ·不同CH_4浓度的N型纳米金刚石薄膜表征 | 第39-45页 |
| ·不同CH_4浓度的N型纳米金刚石薄膜SEM分析 | 第39-41页 |
| ·不同CH_4浓度的N型纳米金刚石薄膜Raman分析 | 第41-43页 |
| ·不同CH_4浓度的N型纳米金刚石薄膜AFM分析 | 第43-44页 |
| ·不同CH_4浓度的N型纳米金刚石薄膜霍尔效应测试分析 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45页 |
| ·NI膜厚度和热退火处理时间对NI纳米球的影响 | 第45-50页 |
| ·不同Ni膜厚度对Ni纳米金属球形成的影响 | 第45-47页 |
| ·不同热退火时间对Ni纳米金属球形成的影响 | 第47-50页 |
| ·小结 | 第50页 |
| ·AR/O2等离子体刻蚀对N型纳米金刚石微结构的影响 | 第50-58页 |
| ·不同Ar浓度等离子体刻蚀后微结构SEM分析 | 第50-52页 |
| ·不同Ar浓度等离子体刻蚀后微结构Raman分析 | 第52-54页 |
| ·不同Ar浓度等离子体刻蚀后微结构AFM分析 | 第54-56页 |
| ·不同刻蚀时间对微结构的影响 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58页 |
| ·N型纳米金刚石微结构的S波段微波场发射特性 | 第58-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文及研究成果 | 第72页 |
