| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-29页 |
| ·透明导电氧化物（TCO）薄膜 | 第9-10页 |
| ·ITO薄膜的基本性质 | 第10-18页 |
| ·ITO薄膜的结构特性 | 第11-13页 |
| ·ITO薄膜的能带结构 | 第13-14页 |
| ·ITO薄膜的电学性能 | 第14-16页 |
| ·ITO薄膜的光学性能 | 第16-18页 |
| ·ITO薄膜的沉积方法 | 第18-20页 |
| ·化学法 | 第18-19页 |
| ·物理法 | 第19-20页 |
| ·ITO薄膜的应用 | 第20-24页 |
| ·本论文目的、意义及研究内容 | 第24-29页 |
| 第2章 电子束蒸发ITO薄膜的生长过程及结构演变研究 | 第29-61页 |
| ·实验方法 | 第29-31页 |
| ·样品制备 | 第29-31页 |
| ·样品表征 | 第31页 |
| ·低速沉积ITO薄膜的生长过程及结构演变 | 第31-41页 |
| ·50 nm厚ITO薄膜的结构特性 | 第31-36页 |
| ·100 nm厚ITO薄膜的结构特性 | 第36-38页 |
| ·250 nm厚ITO薄膜的结构特性 | 第38-41页 |
| ·高速沉积ITO薄膜的生长过程及结构演变 | 第41-53页 |
| ·50 nm厚ITO薄膜的结构特性 | 第41-48页 |
| ·100 nm厚ITO薄膜的结构特性 | 第48-51页 |
| ·250 nm厚ITO薄膜的结构特性 | 第51-53页 |
| ·不同工艺条件制备ITO薄膜的结构特性研究 | 第53-59页 |
| ·ITO薄膜的微结构 | 第53-57页 |
| ·ITO薄膜的表面形貌 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第3章 ITO薄膜的光电性能研究 | 第61-73页 |
| ·实验方法 | 第61-62页 |
| ·样品准备 | 第61页 |
| ·样品表征 | 第61-62页 |
| ·ITO薄膜的电学性能 | 第62-66页 |
| ·ITO薄膜的光学性能 | 第66-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第4章 ITO薄膜的力学性能研究 | 第73-99页 |
| ·样品准备 | 第73页 |
| ·ITO薄膜的纳米硬度及弹性模量 | 第73-82页 |
| ·纳米压入测试原理及实验条件 | 第73-76页 |
| ·纳米硬度及弹性模量 | 第76-82页 |
| ·ITO薄膜的应力状态 | 第82-88页 |
| ·ITO薄膜内应力计算 | 第82-84页 |
| ·ITO薄膜内应力产生机理 | 第84-88页 |
| ·ITO薄膜的膜-基结合性能 | 第88-96页 |
| ·纳米划入测试过程及实验条件 | 第88-89页 |
| ·膜-基结合性能 | 第89-96页 |
| ·本章小结 | 第96-99页 |
| 第5章 球形基底表面ITO薄膜的制备 | 第99-117页 |
| ·球形基底表面膜厚分布的理论计算 | 第99-102页 |
| ·行星式工装膜厚分布计算原理 | 第99-102页 |
| ·行星式运动球形基底表面膜厚分布计算 | 第102页 |
| ·球形基底表面ITO薄膜的厚度均匀性研究 | 第102-107页 |
| ·理论分析 | 第102-105页 |
| ·实际膜厚分布 | 第105-107页 |
| ·球形基底表面ITO薄膜的性能研究 | 第107-115页 |
| ·球形基底表面ITO薄膜的结构特性 | 第107-110页 |
| ·球形基底表面ITO薄膜的光电性能 | 第110-113页 |
| ·球形基底表面ITO薄膜的力学性能 | 第113-115页 |
| ·本章小结 | 第115-117页 |
| 第6章 结论、创新点及展望 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-131页 |
| 附录1 标准粉末衍射数据 | 第131-137页 |
| 在读期间发表的论文 | 第137-139页 |
| 致谢 | 第139页 |