| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·分子自组装技术 | 第11-17页 |
| ·自组装膜的种类 | 第11-12页 |
| ·自组装单分子膜 | 第11-12页 |
| ·自组装多层膜 | 第12页 |
| ·几种主要的自组装膜体系 | 第12-14页 |
| ·羧酸自组装膜 | 第12页 |
| ·有机硫化物类自组装膜 | 第12-13页 |
| ·有机硅烷类自组装膜 | 第13页 |
| ·烷基膦酸类自组装膜 | 第13-14页 |
| ·自组装膜的表征技术 | 第14-17页 |
| ·自组装膜的结构表征 | 第14-16页 |
| ·自组装膜的耐蚀性能表征 | 第16-17页 |
| ·常见金属表面硅烷自组装缓蚀膜 | 第17-20页 |
| ·铝表面有机硅烷自组装缓蚀膜 | 第17页 |
| ·铁表面有机硅烷自组装缓蚀膜 | 第17-18页 |
| ·铜表面有机硅烷自组装缓蚀膜 | 第18-19页 |
| ·其他金属表面有机硅烷自组装缓蚀膜 | 第19-20页 |
| ·论文选题的目的和研究意义 | 第20-21页 |
| 第2章 430不锈钢表面GPTMS硅烷膜的自组装及缓蚀性能研究 | 第21-33页 |
| ·实验部分 | 第21-22页 |
| ·GPTMS自组装膜的制备 | 第21-22页 |
| ·测试方法 | 第22页 |
| ·结果与讨论 | 第22-32页 |
| ·GPTMS浓度对自组装膜的影响 | 第22-25页 |
| ·动电位扫描 | 第22-24页 |
| ·交流阻抗 | 第24-25页 |
| ·自组装时间对自组装膜的影响 | 第25-27页 |
| ·动电位扫描 | 第25-26页 |
| ·交流阻抗 | 第26-27页 |
| ·前处理对自组装膜的影响 | 第27-32页 |
| ·动电位扫描 | 第27-28页 |
| ·交流阻抗 | 第28-29页 |
| ·FTIR | 第29-30页 |
| ·接触角测试 | 第30-31页 |
| ·SEM测试 | 第31-32页 |
| ·AFM测试 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 PFDS自组装膜对430不锈钢的缓蚀作用研究 | 第33-44页 |
| ·实验部分 | 第33-34页 |
| ·430不锈钢的前处理 | 第33页 |
| ·自组装膜的制备 | 第33页 |
| ·电化学测试 | 第33页 |
| ·ATR-FTIR测试 | 第33页 |
| ·接触角测试 | 第33页 |
| ·AFM测试 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-43页 |
| ·PFDS浓度对自组装膜的影响 | 第34-36页 |
| ·动电位扫描 | 第34-35页 |
| ·接触角测试 | 第35-36页 |
| ·自组装时间对自组装膜的影响 | 第36-39页 |
| ·动电位扫描 | 第36-38页 |
| ·交流阻抗 | 第38-39页 |
| ·固化温度对自组装膜的影响 | 第39-41页 |
| ·动电位扫描 | 第39-40页 |
| ·交流阻抗 | 第40-41页 |
| ·FTIR测试 | 第41-42页 |
| ·AFM测试 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 430不锈钢表面GPTMS/PFDS双层膜的研究 | 第44-53页 |
| ·实验部分 | 第44页 |
| ·自组装双层膜的制备 | 第44页 |
| ·测试方法 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·动电位扫描 | 第44-46页 |
| ·交流阻抗 | 第46-47页 |
| ·FTIR测试 | 第47-49页 |
| ·接触角测试 | 第49-51页 |
| ·SEM测试 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-68页 |
| 附录 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
