| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| Contents | 第11-14页 |
| 引言 | 第14-15页 |
| 第一章 文献综述 | 第15-27页 |
| ·质子交换膜的研究进展 | 第15-23页 |
| ·全氟磺酸质子交换膜现状 | 第15-18页 |
| ·部分氟化离子膜 | 第18-19页 |
| ·新型非氟质子交换膜 | 第19-23页 |
| ·全氟磺酸离子膜改性研究进展 | 第23-24页 |
| ·含有亲水的无机粒子的复合膜 | 第23-24页 |
| ·含有固体无机质子导体的复合膜 | 第24页 |
| ·阴离子交换膜 | 第24-26页 |
| ·选题的意义和创新点 | 第26-27页 |
| ·选题的意义 | 第26页 |
| ·创新点 | 第26-27页 |
| 第二章 磷钼酸/硅钨酸表面改性质子交换复合膜的制备与性能 | 第27-38页 |
| ·实验仪器与药品 | 第27-28页 |
| ·实验仪器 | 第27页 |
| ·实验药品 | 第27-28页 |
| ·复合质子交换膜的制备 | 第28-29页 |
| ·复合膜制备方法概述 | 第28页 |
| ·膜的预处理 | 第28-29页 |
| ·磷钼酸/硅钨酸复合质子交换膜制备方法 | 第29页 |
| ·复合膜的表征 | 第29-30页 |
| ·阻抗电导率 | 第29-30页 |
| ·中常温电导率 | 第29页 |
| ·低温电导率 | 第29-30页 |
| ·热稳定性 | 第30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-37页 |
| ·温度对膜阻抗电导率的影响 | 第30-32页 |
| ·中常温对阻抗谱的影响 | 第30-31页 |
| ·低温对阻抗谱的影响 | 第31页 |
| ·温度对膜电导率的影响 | 第31-32页 |
| ·扰动电压对阻抗谱的影响 | 第32-33页 |
| ·复合膜的热稳定性 | 第33-37页 |
| ·热分析动力学 | 第33页 |
| ·热重分析 | 第33-34页 |
| ·热分解动力学 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 硅钨酸表面改性质子交换复合膜的制备与性能 | 第38-48页 |
| ·硅钨酸复合质子交换膜的制备方法 | 第38页 |
| ·复合膜的表征 | 第38页 |
| ·SiWA-PEM阻抗电导率 | 第38页 |
| ·SiWA-PEM热稳定性 | 第38页 |
| ·实验结果与讨论 | 第38-47页 |
| ·温度对SiWA-PEM阻抗谱的影响 | 第38-39页 |
| ·温度对SiWA-PEM电导率的影响 | 第39-40页 |
| ·复合膜的热稳定性 | 第40-47页 |
| ·热分析动力学方程 | 第40页 |
| ·用Z(α)-α法推断最概然机理函数 | 第40-41页 |
| ·SiWA-PEM热重分析 | 第41-42页 |
| ·SiWA-PEM热分解动力学 | 第42-44页 |
| ·SiWA-PEM的热降解机理 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 二氧化钛及二氧化硅表面改性质子交换复合膜的制备与性能 | 第48-56页 |
| ·TiO_2及SiO_2复合质子交换膜的制备方法 | 第48页 |
| ·复合膜的表征 | 第48页 |
| ·TiO_2/SiO_2-PEM阻抗电导率 | 第48页 |
| ·TiO_2/SiO_2-PEM热稳定性 | 第48页 |
| ·实验结果与讨论 | 第48-55页 |
| ·温度对TiO_2/SiO_2-PEM阻抗谱的影响 | 第48-49页 |
| ·温度对TiO_2/SiO_2-PEM电导率的影响 | 第49-50页 |
| ·复合膜的热稳定性 | 第50-55页 |
| ·TiO_2/SiO_2-PEM热重分析 | 第50-51页 |
| ·TiO_2/SiO_2-PEM热分解动力学 | 第51-54页 |
| ·TiO_2/SiO_2-PEM的热降解机理 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 作者简介及读研期间主要科研成果 | 第68页 |
