| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·自清洁效应 | 第11-18页 |
| ·荷叶效应 | 第11-12页 |
| ·疏水及超疏水表面 | 第12页 |
| ·亲水及超亲水表面 | 第12-18页 |
| ·喷墨打印法制备 TiO_2薄膜的探索 | 第18-27页 |
| ·喷墨打印原理 | 第18页 |
| ·陶瓷墨水研究进展 | 第18-21页 |
| ·喷墨打印墨水要求 | 第21-24页 |
| ·墨水测试方法 | 第24-27页 |
| ·二氧化钛薄膜其他制备方法 | 第27-32页 |
| ·水热法 | 第27-28页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第28-31页 |
| ·液相沉积法 | 第31页 |
| ·化学气相沉积法 | 第31-32页 |
| ·其他方法 | 第32页 |
| ·本论文的研究背景及研究内容 | 第32-34页 |
| ·本论文的研究背景及意义 | 第32页 |
| ·本论文的研究内容 | 第32-34页 |
| 第二章 实验方法 | 第34-40页 |
| ·实验主要原料和仪器 | 第34-35页 |
| ·实验主要原料 | 第34页 |
| ·实验仪器设备 | 第34-35页 |
| ·二氧化钛薄膜的制备 | 第35-38页 |
| ·胶溶法制备稳定的二氧化钛溶胶 | 第35-36页 |
| ·溶胶-凝胶法制备稳定的二氧化硅溶胶 | 第36-37页 |
| ·TiO_2薄膜及 TiO_2/SiO_2薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·实验表征方法 | 第38-40页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第38页 |
| ·溶胶粒度分布分析（APS） | 第38页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第38-39页 |
| ·接触角测试 | 第39页 |
| ·光催化降解实验 | 第39-40页 |
| 第三章 胶溶法制备 TiO_2溶胶 | 第40-53页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·胶溶法制备 TiO_2溶胶的形成机理和过程 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-52页 |
| ·溶胶固含量测试 | 第44页 |
| ·溶胶透明度测试 | 第44-46页 |
| ·XRD 图分析 | 第46-48页 |
| ·罗丹明降解实验 | 第48-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 溶胶-凝胶法制备稳定的 SiO_2溶胶 | 第53-65页 |
| ·实验部分 | 第53-54页 |
| ·溶胶-凝胶法制备 SiO_2溶胶实验原理 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-63页 |
| ·硅烷和正硅酸乙酯体系红外分析 | 第57-59页 |
| ·硅烷偶联剂的添加量的影响 | 第59-60页 |
| ·催化剂添加量的影响 | 第60-62页 |
| ·乙醇添加量的影响 | 第62-63页 |
| ·水添加量及反应温度的影响 | 第63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 TiO_2薄膜及 TiO_2/SiO_2复合亲水薄膜的制备与研究 | 第65-85页 |
| ·实验部分 | 第65-67页 |
| ·TiO_2薄膜的 XRD 分析 | 第67-68页 |
| ·TiO_2薄膜的形貌分析 | 第68-69页 |
| ·TiO_2薄膜的性能研究 | 第69-75页 |
| ·无煅烧的 TiO_2薄膜表面亲水性的研究 | 第69-72页 |
| ·煅烧后 TiO_2薄膜表面亲水性的研究 | 第72-74页 |
| ·煅烧前后的 TiO_2薄膜的光催化性能 | 第74-75页 |
| ·TiO_2/SiO_2薄膜的性能研究 | 第75-83页 |
| ·TiO_2/SiO_2薄膜成膜性研究 | 第75-77页 |
| ·TiO_2薄膜及 TiO_2/SiO_2薄膜形貌分析 | 第77-79页 |
| ·TiO_2/SiO_2薄膜亲水性研究 | 第79-83页 |
| ·本章小结 | 第83-85页 |
| 结论 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-98页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第98-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 附件 | 第100页 |
