| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·纳米材料 | 第11-12页 |
| ·纳米材料定义 | 第11页 |
| ·纳米材料的特质 | 第11-12页 |
| ·II-VI 一维纳米结构的制备方法 | 第12-20页 |
| ·水热法/热溶剂法 | 第12-13页 |
| ·电化学沉积法 | 第13-15页 |
| ·气相沉积法 | 第15-16页 |
| ·胶体法 | 第16-18页 |
| ·其他方法 | 第18-20页 |
| ·II-VI 族纳米结构阵列的制备方法 | 第20-26页 |
| ·模板法 | 第20-21页 |
| ·异质外延和同质外延生长 | 第21-23页 |
| ·热溶剂法 | 第23-25页 |
| ·由其它材料转换 | 第25页 |
| ·其它方法 | 第25-26页 |
| ·II-VI 族纳米线阵列的应用 | 第26-29页 |
| ·增强场发射性能 | 第26-27页 |
| ·常温激光器 | 第27-28页 |
| ·可见光盲区的紫外光传感器 | 第28-29页 |
| ·纳米发电机 | 第29页 |
| ·本课题的研究内容及研究意义 | 第29-31页 |
| ·本课题的意义 | 第29-30页 |
| ·本课题的研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验设备与测试表征手段 | 第31-41页 |
| ·材料制备合成的实验仪器及实验方法 | 第31-35页 |
| ·双温区管式炉 | 第31-32页 |
| ·电子束蒸发镀膜仪 | 第32页 |
| ·RIE-反应离子刻蚀机 | 第32-33页 |
| ·光刻系统 | 第33页 |
| ·快速退火炉 | 第33-34页 |
| ·原子层沉积系统(ALD) | 第34-35页 |
| ·材料的测试和表征 | 第35-41页 |
| ·场发射透射电镜 | 第35-36页 |
| ·扫描电镜 | 第36-37页 |
| ·紫外可见近红外分光光度计 | 第37-38页 |
| ·荧光光谱仪 | 第38页 |
| ·激光共聚焦显微拉曼光谱仪 | 第38-39页 |
| ·X 射线粉末衍射仪 | 第39-40页 |
| ·光伏电池测设系统 | 第40-41页 |
| 第三章 硅衬底表面图案化调控 CdSe 纳米材料形貌与结构 | 第41-49页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验 | 第41-43页 |
| ·CdSe 纳米线，纳米带和纳米梳的制备 | 第41-42页 |
| ·CdSe 微米花阵列的制备 | 第42页 |
| ·MCEE 刻蚀硅孔作为衬底生长 CdSe 纳米线阵列 | 第42页 |
| ·RIE 刻蚀孔作为衬底制备形貌独特的 CdSe 纳米结构 | 第42-43页 |
| ·CdSe:Ga 叠层六边角片的制备 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-48页 |
| ·CdSe 纳米线和纳米带结构的形貌特征及生长机理 | 第43-44页 |
| ·CdSe 纳米梳的形貌表征及分析 | 第44-45页 |
| ·CdSe 微米花阵列的形貌表征及分析 | 第45页 |
| ·MCEE 法刻蚀硅孔作为衬底制备 CdSe 阵列形貌及分析 | 第45-46页 |
| ·RIE 刻蚀孔作为衬底制备的 CdSe 纳米晶体的形貌及分析 | 第46-47页 |
| ·CdSe:Ga 的叠成六角片的结构表征 | 第47-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 孔诱导法生长 CdSe 纳米线阵列及其光伏应用 | 第49-61页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验 | 第50-52页 |
| ·多孔硅的制备 | 第50-51页 |
| ·CdSe 纳米线阵列的制备 | 第51-52页 |
| ·CdSe:Ga 纳米线阵列/Si p-n 异质结的制备 | 第52页 |
| ·结果和讨论 | 第52-60页 |
| ·CdSe 纳米线的形貌表征 | 第52-55页 |
| ·CdSe 纳米线阵列的生长机制 | 第55页 |
| ·CdSe 纳米线阵列的光学性能表征 | 第55-56页 |
| ·孔诱导生长法的扩展 | 第56-57页 |
| ·CdSe 纳米线阵列和硅的 p-n 异质结以及其光伏表征 | 第57-60页 |
| 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 模板法合成 CdS 纳米管及其光学表征 | 第61-67页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验 | 第61-62页 |
| ·氧化硅纳米管的制备 | 第61-62页 |
| ·氧化硅作为模板制备 CdS 纳米管 | 第62页 |
| ·结果和讨论 | 第62-66页 |
| ·氧化硅纳米管的形貌和结构表征 | 第62-63页 |
| ·氧化硅生长的机理及 SiOx/CdS 核壳结构纳米管的制备 | 第63-64页 |
| ·SiOx/CdS 核壳结构纳米管的形貌和结构表征 | 第64-65页 |
| ·SiOx/CdS 核壳结构纳米管的光学性能表征 | 第65-66页 |
| 本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
