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纳秒UV激光在薄膜太阳电池中膜面划线的研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-10页
目录第10-22页
第一章 引言第22-26页
   ·为什么应该使用太阳能第22页
   ·薄膜太阳电池第22-23页
   ·论文概论第23-26页
第二章 薄膜硅太阳电池第26-40页
   ·硅薄膜材料第26-30页
     ·光致衰减效应(Staebler-Wronski effect:SWE)第27-28页
     ·硅薄膜材料的光学带隙和光吸收系数第28-29页
     ·太阳光谱第29-30页
   ·单节a-Si:H和叠层a-Si:H/μc-Si:H太阳电池结构第30-33页
     ·单节非晶硅电池第30-31页
     ·叠层太阳电池第31-33页
   ·硅薄膜太阳电池的性能第33-40页
     ·太阳电池的电流电压特性第33-36页
     ·太阳电池的等效电路第36-40页
第三章 薄膜太阳电池组件第40-56页
   ·引言第40页
   ·薄膜太阳电池组件单片内部串联第40-43页
     ·子电池的最优宽度第42-43页
   ·激光划线第43-49页
     ·激光第43-45页
     ·激光消融第45-46页
     ·划线时激光的入射方向:从薄膜面或衬底面入射划线第46-48页
     ·脉冲激光划线第48-49页
   ·实验部分第49-56页
     ·激光划线系统第49-51页
     ·标准薄膜太阳电池组件内部串联程序第51-56页
第四章 TCO层划线的研究(P1)第56-78页
   ·引言第56-57页
   ·激光束从玻璃面入射的划线第57-63页
     ·材料性能第57-60页
     ·实验部分第60-61页
     ·结果和讨论第61-63页
   ·激光从薄膜面入射划线第63-75页
     ·单个激光脉冲的消融作用第63-64页
     ·消融阈值的测定第64-70页
     ·激光线的电学隔离性能测定及其在组件中的应用第70-75页
   ·结论第75-78页
第五章 吸收层划线的研究(P2)第78-100页
   ·引言第78-81页
   ·实验部分第81-87页
     ·消融阈值的确定第81页
     ·传输线测量方法第81-86页
     ·表面分析方法第86-87页
   ·激光线的分析第87-96页
     ·接触电阻(R_C)第87-88页
     ·表面形貌第88-89页
     ·光电子能谱(XPS)第89-92页
     ·次离子质谱(SIMS)第92-96页
   ·讨论第96-97页
   ·双重叠率法第97-99页
     ·双重叠率法在非晶硅单结电池上的应用第97页
     ·双重叠率法在a-Si:H/μc-Si:H双结电池上的应用第97-99页
   ·结论第99-100页
第六章 背电极激光划线(P3)第100-118页
   ·引言第100-101页
   ·实验部分第101-102页
     ·实验设置第101页
     ·脉冲激光划线第101-102页
     ·衬底制备第102页
   ·P3激光线的电学表征第102-107页
   ·结果部分第107-112页
   ·讨论第112-115页
   ·紫外激光全膜面划线组件示范第115-116页
   ·结论第116-118页
第七章 总结与展望第118-122页
   ·主要结论与创新点第118-120页
   ·作展望第120-122页
参考文献第122-136页
致谢第136-138页
攻读学位期间发表的学术论文目录第138页

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