二氧化钛薄膜的原位制备及其光电催化性能研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-10页
第1章 绪论	第10-26页
·引言	第10-11页
·TiO_2光催化技术研究进展与国内外现状	第11-13页
·TiO_2光催化原理	第13-15页
·半导体光催化反应过程	第13-14页
·TiO_2光催化机理	第14-15页
·TiO_2光催化剂的制备方法	第15-18页
·粉体TiO_2催化剂	第15-16页
·薄膜TiO_2催化剂	第16-18页
·微弧氧化研究进展与现状	第18-20页
·微弧氧化机理	第18-19页
·微弧氧化工艺	第19-20页
·影响TiO_2光电催化性能因素	第20-24页
·TiO_2膜层形貌及厚度	第20-21页
·TiO_2光催化剂的晶体结构	第21页
·TiO_2光催化剂的改性	第21-23页
·光强的影响	第23页
·外加偏压的影响	第23页
·反应物初始浓度的影响	第23-24页
·课题研究目的与主要内容	第24-26页
·研究目的与意义	第24-25页
·论文主要内容	第25-26页
第2章 试验材料和方法	第26-33页
·试验材料与设备	第26-27页
·试验材料	第26-27页
·微弧氧化设备	第27页
·TiO_2薄膜的制备与处理	第27-30页
·微弧氧化TiO_2薄膜制备	第27-28页
·微弧氧化TiO_2薄膜的热处理	第28-29页
·微弧氧化TiO_2薄膜的浸渍	第29-30页
·微弧氧化TiO_2薄膜的表征	第30页
·SEM形貌表征	第30页
·XRD物相分析	第30页
·DRS漫反射吸收光谱分析	第30页
·膜层硬度的测量	第30页
·膜层结合强度测试	第30页
·微弧氧化TiO_2薄膜催化性能测试	第30-33页
·光催化性能测试	第30-32页
·光电催化性能测试	第32-33页
第3章 微弧氧化TiO_2薄膜组织与物理性能表征	第33-45页
·不同电流密度下电压随时间变化规律	第33-34页
·电流密度对氧化膜组织性能影响	第34-40页
·电流密度对氧化膜表面形貌影响	第34-35页
·电流密度对氧化膜截面形貌影响	第35-36页
·电流密度对氧化膜物相的影响	第36-37页
·TiO_2薄膜截面EDS能谱表征	第37-38页
·电流密度对氧化膜硬度影响	第38-39页
·电流密度对结合强度的影响	第39-40页
·热处理对氧化膜的影响	第40-42页
·热处理温度对氧化膜形貌的影响	第40-41页
·热处理温度对氧化膜晶型的影响	第41-42页
·Zn的浸渍对TiO_2薄膜的影响	第42-44页
·Zn浸渍TiO_2薄膜形貌分析	第42页
·Zn浸渍TiO_2薄膜XRD分析	第42-43页
·Zn浸渍TiO_2薄膜DRS吸收光谱分析	第43-44页
·本章小结	第44-45页
第4章 微弧氧化TiO_2薄膜光催化性能研究	第45-50页
·TiO_2薄膜结构对光催化性能影响	第45页
·TiO_2薄膜晶型对光催化性能影响	第45-46页
·Zn浸渍对TiO_2薄膜光催化性能影响	第46-48页
·Zn浸渍对TiO_2薄膜光催化稳定性影响	第48-49页
·本章小结	第49-50页
第5章 微弧氧化TiO_2薄膜光电催化动力学研究	第50-59页
·TiO_2半导体光催化反应动力学	第50-52页
·反应动力学方程及参数的确定	第52-53页
·TiO_2薄膜降解甲基橙动力学研究	第53-58页
·不同偏压下甲基橙降解动力学规律	第53-55页
·不同初始浓度下甲基橙降解动力学规律	第55-58页
·本章小结	第58-59页
第6章 结论	第59-60页
存在的问题与展望	第60-61页
致谢	第61-62页
参考文献	第62-67页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况	第67页