高砷脱铜电解液的净化与回用研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-25页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·铜的冶炼方法 | 第10-11页 |
| ·铜的电解精炼 | 第11-14页 |
| ·铜电解液中的杂质危害及净化 | 第14-21页 |
| ·铜电解液中杂质的危害 | 第14-16页 |
| ·铜电解液的净化 | 第16-21页 |
| ·硫酸镍的净化 | 第21-24页 |
| ·传统法净化硫酸镍 | 第21-23页 |
| ·萃取法净化硫酸镍 | 第23-24页 |
| ·本论文的研究目的及意义 | 第24-25页 |
| 第二章 脱镍后液还原净化 | 第25-34页 |
| ·实验 | 第25-26页 |
| ·实验步骤 | 第25页 |
| ·分析与检测 | 第25-26页 |
| ·实验结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·通气时反应温度对还原净化效果的影响 | 第26-27页 |
| ·通气反应时间对还原净化效果的影响 | 第27-29页 |
| ·稀释倍数对还原净化效果的影响 | 第29-31页 |
| ·通气后静置时间对还原净化效果的影响 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 二段脱铜液砷镍的回收 | 第34-45页 |
| ·实验 | 第34-36页 |
| ·实验步骤 | 第34-35页 |
| ·分析与检测 | 第35-36页 |
| ·实验结果与讨论 | 第36-44页 |
| ·二段脱铜液中As(V)的还原 | 第36-40页 |
| ·还原后液中砷镍的脱除 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 电镀级硫酸镍的制备 | 第45-66页 |
| ·实验 | 第45-48页 |
| ·实验步骤 | 第45-47页 |
| ·分析与检测 | 第47-48页 |
| ·实验结果与讨论 | 第48-65页 |
| ·沉淀法对硫酸镍净化效果的影响 | 第48-57页 |
| ·沉淀-萃取法对硫酸镍净化效果的影响 | 第57-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 净化后脱铜电解液的回用 | 第66-75页 |
| ·实验 | 第66-67页 |
| ·实验步骤 | 第66-67页 |
| ·分析与检测 | 第67页 |
| ·实验结果与讨论 | 第67-74页 |
| ·电流密度为235 A·m~(-2)时铜电解 | 第67-71页 |
| ·电流密度为305 A·m~(-2)时铜电解 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 攻读学位期间主要研究成果 | 第84页 |
