| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·铬及其氧化物的一些特性 | 第11-12页 |
| ·铬的性质 | 第11页 |
| ·铬的氧化物 | 第11-12页 |
| ·Cr_2O_3和CrO_2 纳米材料的研究现状 | 第12-13页 |
| ·Cr_2O_3 和CrO_2 纳米材料的研究内容和意义 | 第13-15页 |
| ·研究内容 | 第14页 |
| ·研究意义 | 第14-15页 |
| 第2章 实验方法与设备 | 第15-23页 |
| ·化学气相沉积法（chemical-vapor deposition，CVD） | 第15-19页 |
| ·化学气相沉积(CVD)的简单介绍 | 第15-16页 |
| ·化学气相沉积法制备纳米材料的机理 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法制备纳米材料的辅助方法 | 第17-19页 |
| ·实验设备 | 第19-22页 |
| ·系统结构 | 第19-20页 |
| ·系统的装配实现 | 第20-22页 |
| ·系统的性能指标 | 第22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 Cr_2O_3纳米材料的制备、表征及物性 | 第23-53页 |
| ·宽禁带半导体材料的概述 | 第23页 |
| ·Cr_2O_3的基本性质 | 第23-25页 |
| ·制备过程 | 第25-28页 |
| ·衬底清洗 | 第27页 |
| ·装料过程 | 第27页 |
| ·抽本底真空 | 第27-28页 |
| ·生长过程 | 第28页 |
| ·Cr_2O_3多晶薄膜的制备、表征及物性 | 第28-35页 |
| ·Cr_2O_3多晶薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·Cr_2O_3多晶薄膜的表征 | 第29-33页 |
| ·Cr_2O_3多晶薄膜的光学性质 | 第33-35页 |
| ·Cr_2O_3多晶薄膜的磁性 | 第35页 |
| ·Cr_2O_3微（纳）米柱的制备，表征及物性 | 第35-42页 |
| ·Cr_2O_3微（纳）米柱的制备 | 第35-36页 |
| ·Cr_2O_3微（纳）米柱的表征 | 第36-42页 |
| ·Cr_2O_3纳米管的制备，表征及物性 | 第42-52页 |
| ·多孔阳极氧化铝（AAO）模板的制备 | 第42-45页 |
| ·Cr_2O_3纳米管的制备 | 第45-46页 |
| ·Cr_2O_3纳米管的表征 | 第46-50页 |
| ·Cr_2O_3纳米管的光学性质 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 CrO_2纳米材料的制备、表征及物性 | 第53-68页 |
| ·半金属材料的概述 | 第53-54页 |
| ·CrO_2的基本性质 | 第54-56页 |
| ·CrO_2多晶薄膜的制备、表征和物性 | 第56-59页 |
| ·CrO_2多晶薄膜的制备 | 第56页 |
| ·CrO_2多晶薄膜的XRD分析 | 第56-57页 |
| ·CrO_2多晶薄膜的SEM形貌表征 | 第57-58页 |
| ·CrO_2多晶薄膜的磁性 | 第58-59页 |
| ·CrO_2纳米管的制备、表征和物性 | 第59-66页 |
| ·CrO_2纳米管的制备 | 第59页 |
| ·CrO_2纳米管的SEM形貌表征 | 第59-60页 |
| ·CrO_2 纳米管的TEM和HRTEM形貌表征 | 第60-62页 |
| ·CrO_2纳米管的XRD分析 | 第62-63页 |
| ·CrO_2纳米管的磁性分析 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 致谢 | 第76页 |