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焦磷酸盐溶液体系低锡铜—锡合金电键工艺

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-12页
第一章 绪论第12-26页
   ·合金电镀概述第12-17页
     ·合金电镀的分类第12-13页
     ·电镀合金的特点第13页
     ·合金共沉积的条件第13-14页
     ·合金电镀的类型第14-16页
     ·合金电镀的研究进展第16-17页
   ·电镀铜锡合金概述第17-19页
     ·铜锡合金镀层的分类及特点第17-18页
     ·铜锡合金电镀光亮剂的研究第18-19页
   ·国外无氰铜锡合金电镀工艺进展第19-22页
     ·柠檬酸盐电镀铜锡合金第20页
     ·硫酸盐电镀铜锡合金第20-21页
     ·在聚醚存在下的硫酸盐电镀铜锡合金第21页
     ·其他体系第21-22页
   ·国内无氰铜锡合金电镀工艺进展第22-25页
     ·HEDP—柠檬酸电镀铜锡合金第23页
     ·焦磷酸盐—锡酸盐电镀铜锡合金第23页
     ·三乙醇胺电镀铜锡合金第23页
     ·焦磷酸盐电镀铜锡合金第23-24页
     ·其他体系第24-25页
   ·本文的研究背景及研究内容第25-26页
第二章 焦磷酸盐溶液体系电镀低锡铜-锡合金的基础镀液与工艺条件研究第26-39页
   ·前言第26页
   ·实验部分第26-27页
     ·试验仪器及药品第26页
     ·镀液的组成与配制方法第26页
     ·电镀实验工艺流程第26-27页
     ·赫尔槽试验与试片外观的判断第27页
     ·直流电解试验第27页
     ·镀层性能检测实验第27页
     ·镀液稳定性能测试第27页
   ·结果与讨论第27-37页
     ·镀液组成选择的正交试验第27-28页
     ·镀液组分浓度的影响第28-33页
     ·工艺条件对赫尔槽试片外观的影响第33-36页
     ·镀层的结合力第36页
     ·镀液稳定性第36-37页
   ·本章小结第37-38页
   ·基础镀液组成与工艺条件研究存在的问题与改善的方向第38-39页
第三章 焦磷酸盐溶液体系电镀低锡铜-锡合金的辅助络合剂与添加剂的研究第39-54页
   ·前言第39页
   ·实验部分第39-40页
     ·赫尔槽实验第39页
     ·方槽电镀实验第39页
     ·工艺流程第39-40页
     ·镀液的配制方法第40页
     ·电镀添加剂的配制第40页
     ·镀层性能检测实验第40页
   ·实验结果与讨论第40-52页
       ·辅助配位剂的探讨第40-43页
     ·添加剂的探讨第43-46页
     ·添加剂用量的探讨第46-47页
     ·使用添加剂后的最佳溶液组成与工艺条件研究第47-51页
     ·焦磷酸盐溶液体系电镀低锡铜-锡合金的镀液组成与工艺条件第51-52页
     ·镀层结合力测试第52页
   ·本章小结第52-53页
   ·需解决的问题及下一步研究计划第53-54页
第四章 焦磷酸盐电镀低锡铜-锡合金的应用及镀层性能第54-65页
   ·前言第54页
   ·实验部分第54-56页
     ·实验药品第54-55页
     ·工艺流程第55页
     ·镀液的配制方法第55页
     ·镀层厚度与成分测试第55页
     ·镀层性能测试第55-56页
     ·镀层微观结构与表面形貌测试第56页
   ·实验结果与讨论第56-63页
     ·滚镀实验第56-58页
     ·挂镀实验第58-59页
     ·镀层性能测试第59-61页
     ·镀层微观结构及表面形貌研究第61-63页
   ·本章小结第63-65页
结论与展望第65-67页
参考文献第67-71页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第71-72页
致谢第72-73页
附件第73页

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