| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-34页 |
| ·引言 | 第12-15页 |
| ·铁磁性半导体 | 第15-25页 |
| ·铁磁性半导体的基本特征 | 第15-17页 |
| ·铁磁性半导体的研究历史 | 第17-21页 |
| ·铁磁性半导体中的磁性起源 | 第21-24页 |
| ·铁磁性半导体的潜在应用 | 第24-25页 |
| ·氧化铟材料理化性质介绍 | 第25-27页 |
| ·氧化铟基铁磁性半导体的研究现状 | 第27-32页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第32-34页 |
| 第二章 样品的制备技术与测试分析方法 | 第34-47页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第34-40页 |
| ·脉冲激光沉积的原理 | 第35-37页 |
| ·脉冲激光镀膜的优缺点 | 第37-38页 |
| ·实验用脉冲激光沉积设备简介 | 第38-40页 |
| ·薄膜的测试分析方法 | 第40-47页 |
| ·X射线衍射 | 第40-42页 |
| ·反射式高能电子衍射 | 第42-43页 |
| ·原子力显微镜 | 第43-45页 |
| ·交变梯度磁强计 | 第45-46页 |
| ·反常霍尔效应测量设备 | 第46-47页 |
| 第三章 具有良好结构的铁掺杂氧化铟铁磁性半导体的生长及性能研究 | 第47-68页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·外延铁掺杂氧化铟单晶薄膜的制备方法 | 第47-49页 |
| ·外延铁掺杂氧化铟单晶薄膜的各种性质研究 | 第49-66页 |
| ·晶体结构特征 | 第50-51页 |
| ·RHEED图样 | 第51-53页 |
| ·磁特性 | 第53-56页 |
| ·反常霍尔效应 | 第56-59页 |
| ·原子力显微镜 | 第59-66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第73页 |