ZnO荧光薄膜的脉冲激光沉积
英文摘要 | 第1-5页 |
中文摘要 | 第5-7页 |
第一章 引言 | 第7-20页 |
1.1 场发射平板显示简介 | 第7-8页 |
1.2 场发射平板显示荧光薄膜的研究及其应用进展 | 第8-11页 |
1.2.1 存在的问题和解决思路 | 第8-10页 |
1.2.2 荧光薄膜研究及其应用 | 第10-11页 |
1.3 ZnO荧光薄膜的研究进展 | 第11-20页 |
1.3.1 体块的性质 | 第11-12页 |
1.3.2 ZnO荧光薄膜的制备方法 | 第12-20页 |
第二章 理论基础及实验方法 | 第20-37页 |
2.1 发光机理 | 第20-26页 |
2.1.1 荧光体发光理论模型 | 第20-23页 |
2.1.2 ZnO荧光薄膜的发光机理 | 第23-26页 |
2.2 制备方法 | 第26-34页 |
2.2.1 脉冲激光沉积系统 | 第26-27页 |
2.2.2 脉冲激光沉积过程的特性 | 第27-34页 |
2.3 测试手段 | 第34-37页 |
第三章 ZnO荧光薄膜的脉冲激光沉积 | 第37-50页 |
3.1 脉冲激光沉积薄膜工艺 | 第37-38页 |
3.2 脉冲能量对荧光薄膜质量的影响 | 第38-41页 |
3.3 沉积室氧压对荧光薄膜质量的影响 | 第41-43页 |
3.4 后退火处理荧光薄膜 | 第43-46页 |
3.5 金属涂层对荧光薄膜的影响 | 第46-50页 |
第四章 结论 | 第50-52页 |
致谢 | 第52页 |