| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·反铁电材料的概述 | 第10-14页 |
| ·反铁电材料的发展 | 第11-12页 |
| ·反铁电材料的基本特征 | 第12-14页 |
| ·反铁电材料的应用 | 第14-15页 |
| ·PbZrO_3 基反铁电厚膜研究现状 | 第15-19页 |
| ·PbZrO_3 结构 | 第16页 |
| ·反铁电厚膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·反铁电厚膜取向控制 | 第17-18页 |
| ·厚度对厚膜相变的影响 | 第18-19页 |
| ·温度及电场对厚膜相变行为的影响 | 第19页 |
| ·论文的选题依据及研究内容 | 第19-20页 |
| ·课题来源 | 第20-21页 |
| 第2章 PbZrO3 基反铁电厚膜的实验设计与工艺过程 | 第21-33页 |
| ·Sol-Gel 厚膜制备技术 | 第21-24页 |
| ·影响溶胶(Sol)合成的因素 | 第21-23页 |
| ·凝胶膜的晶化 | 第23-24页 |
| ·PbZrO_3 基反铁电厚膜制备工艺优化 | 第24-28页 |
| ·化学原料 | 第24-25页 |
| ·厚膜的制备工艺 | 第25-27页 |
| ·硅片的切割与存放 | 第27-28页 |
| ·上电极的制备 | 第28页 |
| ·厚膜表征方法 | 第28-31页 |
| ·厚膜结构表征 | 第29-31页 |
| ·厚膜电学性能分析 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 前驱体溶液对 PLZT 厚膜制备的影响 | 第33-43页 |
| ·前驱体溶剂对PLZT 厚膜结构及性能的影响 | 第33-37页 |
| ·实验过程 | 第33页 |
| ·前驱体溶剂对PLZT 反铁电厚膜相结构的影响 | 第33-34页 |
| ·前驱体溶剂对PLZT 反铁电厚膜介电性能的影响 | 第34-37页 |
| ·不同前驱体浓度的PLZT 反铁电厚膜的结构 | 第37-42页 |
| ·不同前驱体浓度的PLZT 反铁电厚膜的相结构 | 第37-38页 |
| ·不同前驱体浓度的PLZT 厚膜表面形貌研究 | 第38页 |
| ·不同浓度的 PLZT 反铁电厚膜的介电性能 | 第38-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 热处理工艺对 PLZT 厚膜制备的影响 | 第43-51页 |
| ·热处理方式对PLZT 厚膜结构及性能的影响 | 第43-45页 |
| ·实验过程 | 第43页 |
| ·不同热处理方式的PLZT 反铁电厚膜的结构 | 第43-45页 |
| ·不同热处理方式的PLZT 反铁电厚膜的介电行为研究 | 第45页 |
| ·退火温度对PLZT 反铁电厚膜的结构及性能的影响 | 第45-48页 |
| ·实验过程 | 第45页 |
| ·退火温度对PLZT 反铁电厚膜结构的影响 | 第45-46页 |
| ·退火温度对PLZT 反铁电厚膜介电性能的影响 | 第46-48页 |
| ·退火温度对PLZT 反铁电厚膜相变行为的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 PLZT 厚膜材料结构与性能研究 | 第51-57页 |
| ·PLZT 厚膜制备优化工艺 | 第51页 |
| ·不同厚度的PLZT 反铁电厚膜的相结构 | 第51-53页 |
| ·不同厚度的PLZT 反铁电厚膜的介电性能 | 第53-56页 |
| ·不同厚度的反铁电厚膜的极化行为研究 | 第53-54页 |
| ·不同厚度的反铁电厚膜的电场作用下介电行为研究 | 第54-55页 |
| ·不同厚度的反铁电厚膜在电场作用下电流的变化过程 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第6章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·全文总结 | 第57-58页 |
| ·展望与建议 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
