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腔面反射率调制宽条形半导体激光器

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-12页
 §1.1 半导体激光器的发展历史第7-8页
 §1.2 高功率半导体激光器的应用前景第8-10页
 §1.3 带有模式反射镜的宽条形半导体激光器的研究进展第10-11页
 §1.4 本论文的主要工作内容第11-12页
第二章 半导体激光器模式理论基础第12-27页
 §2.1 半导体激光器的基本模式理论第12页
 §2.2 半导体激光器的空间模式第12-17页
 §2.3 半导体激光器的纵模第17-20页
 §2.4 激光的横模选择技术第20-27页
第三章 分布反射率腔面设计的理论模型第27-32页
 §3.1 波导模型第28-29页
 §3.2 衍射模型第29-32页
第四章 制做工艺结构设计与优化第32-38页
 §4.1 外延片的结构第32页
 §4.2 提高COD阈值设计第32-34页
 §4.3 半导体激光器制作工艺流程第34-38页
第五章 腔面光学薄膜的研究第38-49页
 §5.1 激光反射膜的理论基础第38-41页
 §5.2 分布反射率腔面增透膜的设计与制作第41-47页
 §5.3 腔面膜与出光点的位置误差分析第47-49页
第六章 器件特性测试及光束质量研究第49-59页
 §6.1 特性测试第49-51页
 §6.2 光束质量评价第51-59页
结论第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-63页

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