1520nm～1580nm红外减反射膜的制备

摘要	第1-6页
ABSTRACT	第6-7页
目录	第7-8页
第一章 绪论	第8-15页
·研究背景	第8-9页
·光学薄膜的种类	第9-10页
·光学薄膜工艺技术发展历程	第10页
·光学薄膜制备技术	第10-12页
·本领域国内外情况对比分析	第12-14页
·本文主要工作	第14-15页
第二章 减反射膜系设计	第15-29页
·未镀减反射膜情况分析	第15-16页
·镀单层膜情况分析	第16-18页
·设计双层膜系	第18-29页
第三章 镀膜设备	第29-43页
·镀膜真空室	第30-32页
·真空系统	第32-36页
·真空测量系统	第36-39页
·膜厚控制系统	第39-42页
·离子束辅助系统	第42-43页
第四章 光学薄膜制备工艺	第43-46页
·真空度对光学薄膜性质的影响	第43页
·淀积速率对光学薄膜性质的影响	第43页
·基底温度对光学薄膜性质的影响	第43-44页
·镀制工艺参数	第44-45页
·试验件情况	第45-46页
第五章 实验与结果	第46-51页
·膜系的制备工艺过程	第46-48页
·实验结果	第48-51页
第六章 工艺因素对膜层质量的影响	第51-53页
结论	第53-54页
致谢	第54-55页
参考文献	第55-56页